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全自動型反應離子刻蝕機(RIE)

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更新時間：2022-12-13 17:17:48瀏覽次數：582次

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北京金盛微納科技有限公司

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產品簡介

本產品是“標準型反應離子刻蝕機（RIE）"的全自動雙室產品

詳細介紹

本產品是“標準型反應離子刻蝕機（RIE）"的全自動雙室產品。

詳細描述

本產品通過物理與化學相結合的方法，對很細的線條（亞微米以下）進行刻蝕以形成精細的圖形。

本設備具有選擇比較好、刻蝕速度較快、重復性好、性價比較高等特點。可刻蝕的材料主要有Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs等。

本產品通過對真空系統、工作壓強、射頻電源匹配、氣體流量及工藝過程的全自動控制，使工藝的重復性、穩定性、可靠性得到有效保證，從而獲得較高的刻蝕速率，并能精確地控制圖形的剖面。

本設備的數字化參數界面和自動化操作方式為用戶提供了優良的研發和生產平臺。

本產品通過軟、硬件相互配合的互鎖、智能監控、在線狀態記憶、斷點保護等設計，結合各種硬保護裝置、使設備的安全性、可靠性得到有效保證。

本產品主要用于微電子、光電子、通訊、微機械等領域的器件研發和制造。

產品主要性能指標

型號	RIE-502
真空系統	分子泵機組
刻蝕室數量	雙室
刻蝕室規格	?300×100mm
電極尺寸	?200mm
刻蝕材料	Poly-Si、Si、SiO₂、Si₃N₄、W、Mo、GaN、GaAs等。
刻蝕速率	0.1 – 1 μ/min （與刻蝕材料和工藝有關）
刻蝕不均勻性	≤±5%
自動化程度	真空系統、下游壓力閉環控制、射頻電源、氣體流量、工藝過程全自動控制。
人機界面	Windows環境、觸摸屏操作
操作方式	全自動方式、非全自動方式
自動化裝置的選配	可選擇進口件或國產件