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RIE-3反應離子刻蝕機

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更新時間：2022-12-06 15:45:47瀏覽次數：295次

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北京金盛微納科技有限公司

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產品簡介

本產品通過物理與化學相結合的方法，對很細的線條（亞微米以下）進行刻蝕以形成精細的圖形

詳細介紹

本產品通過物理與化學相結合的方法，對很細的線條（亞微米以下）進行刻蝕以形成精細的圖形。

詳細描述

本設備具有選擇比較好、刻蝕速度較快、重復性好、性價比較高等特點。可刻蝕的材料主要有Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs等。

本設備主要用于微電子、光電子、通訊、微機械等領域的器件研發和制造。

產品主要性能指標

型號	RIE-3
真空系統	分子泵機組
刻蝕室數量	單室
刻蝕室規格	?300×100mm
電極尺寸	?200mm
刻蝕材料	Poly-Si、Si、SiO₂、Si₃N₄、W、Mo、GaN、GaAs等。
刻蝕速率	0.1 – 1 μ/min （與刻蝕材料和工藝有關）
刻蝕不均勻性	≤±5%
操作方式	手動