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GVC-2000磁控離子濺射儀

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更新時間：2022-11-02 16:13:53瀏覽次數：978次

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廣州智匯科學儀器有限公司

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產品簡介

GVC-2000磁控離子濺射儀全自動控制，無需調整針閥鍍膜顆粒小，無熱損傷靶材更換非常簡單特殊密封結構，玻璃不易損壞內置操作向導，無需培訓即可熟練操作

詳細介紹

主要參數
外形尺寸	424（L）×345（D）×420（H）	輸入電源	220V/800W
可用靶材	所有金屬、部分化合物	靶材尺寸	φ57mm
真空室	高硅硼玻璃 φ200×130mm	工作介質	高純氬氣（≥4N）
低真空泵	旋片泵	抽速	1.1L/s
高真空泵	進口渦輪分子泵	抽速	90L/s
極限真空	≤5×10-3Pa	工作真空	0.1-3Pa
濺射電流	5-200mA 可調	濺射時間	1-999s 可調
樣品臺	φ125mm	樣品臺轉速	4-20rpm 可調
顯示屏	7 英寸 TFT 彩色觸摸屏	抽氣節拍	≤5 分鐘
進氣	全自動	放氣	全自動
預濺射	具備預濺射擋板，全自動控制
保護功能	過流保護、真空保護、分子泵過熱保護等
膜厚儀（選配）	可實時顯示鍍膜厚度，并通過設定來控制鍍膜過程，測量精度 0.1nm，單次鍍膜設定范圍 1-999nm，測量范圍 10μm
其它	可根據用戶需要，提供定制化產品