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小型離子濺射儀

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更新時間：2022-11-27 17:21:06瀏覽次數：298次

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產品簡介

產品描述HC-21離子濺射鍍膜機是為普通掃描電鏡非導電樣品制備而設計的一款性能*的經濟型產品，可以濺射金，銀，銅，鋁等靶材

詳細介紹

產品描述

HC-21離子濺射鍍膜機是為普通掃描電鏡非導電樣品制備而設計的一款性能*的經濟型產品，可以濺射金，銀，銅，鋁等靶材。
主要特點：
1.方便操作的自動真空系統
2. 高速鍍膜減少敏感樣品熱損傷High speed coating for reduce heat damage to sensitive specimens.
3. 各種形貌的鍍膜質量非常均勻All shapes, size coating uniformly
4. 集成化的設計.
性能指標：
1. 濺射系統 : 頂部電極發射系統
2. 工作真空度: ~10 -1 Pa (~10 -3 Torr)
3. 高壓電源: DC 0 ~ 1.2 kV (連續可調)
4. 靶材: 57mm dia 金靶盤 (標準) or 碳
5. 真空監測: 皮拉尼真空計
6. 時間控制范圍: 0.1sec, sec, min, hour
7. 離子流: Air / Ar / N
8. 電源 : 220VAC, 單項
9. 外形尺寸(mm) : 300(H)X430(W)X320(D) ; 玻璃樣品室尺寸： 120(Dia)X110 (H)
10. 重量 (kg) : 15