Q150TS,高真空鍍膜儀廠家

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 產品描述：

金屬濺射或碳蒸發或兩者兼備：一體化設計，節約空間 
精細顆粒濺射：高分辨率場發射掃描電鏡（FE-SEM）制樣的精細鍍膜應用 
渦輪分子泵高真空系統：允許不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材的濺射鍍膜，大大拓寬了可濺射靶材范圍，既適合普通SEM、高分辨率FE-SEM鍍膜制樣應用，也為許多薄膜應用等材料科研領域提供理想的鍍膜平臺 
全自動觸摸屏控制：快速數據輸入，簡單操作 
可儲存多個客戶自定義鍍膜方案：對多用戶實驗室十分理想 
與鍍膜過程和鍍膜材料相匹配的預編程自動真空控制 
精細的厚度控制：使用膜厚監控選項 
“智能"式系統識別：自動感知用戶所裝的插入式鍍膜頭的類型 
高真空碳蒸鍍：對SEM和TEM鍍碳膜應用非常理想 
蒸發電流波形控制 
Drop-in落入式快換樣品臺（標配旋轉臺） 
真空閉鎖功能：可讓工作腔室處于真空狀態，改善后續真空效果，或在真空條件下保存樣品 
鍍制厚膜能力：一次真空條件下的濺射時間可長達60分鐘（材料科研領域的應用） 
人體工程學設計的整體成型機殼：易維護和易拆裝 
帶有本地FTP服務器連接的以太網端口：簡單的程序更新 
設有功率因素補償，有效利用電能，降低運行成本 
符合當前電器法規（CE認證）

 主要技術指標：

工作腔室：150mm內徑 x 127mm高 
觸摸屏全圖像用戶界面 
樣品臺：標配旋轉臺 
真空系統： 
渦輪分子泵：帶有空氣冷卻的渦輪分子泵 
旋轉機械泵：雙級旋轉機械泵 
濺射電流：0-150mA；可預設膜厚（需FTM選項）或使用內置定時器 
濺射時間：zui長60分鐘 
碳蒸發：穩定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發，確保源自碳棒或碳絲的可重復蒸碳。 
金屬蒸發/光闌清潔頭：用于源自鎢絲籃或舟的金屬熱蒸發。 
尺寸和重量：儀器機箱：585mm寬x 470mm長 x 410mm高 (總高: 650mm) 
儀器總重量：33.4Kg

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