HMDS涂布機(jī)，HMDS涂膠烤箱原理：

  HMDS涂膠烤箱用于光刻工藝中基板疏水化處理， HMDS 涂布的原理，常用的黏附劑是六甲基二硅胺烷（HMDS）。在提升光刻膠的黏附性工藝中，實(shí)際上六甲基二硅烷并不是作為粘結(jié)劑所產(chǎn)生作用的，而是HMDS 改變了 SiO2 的界面結(jié)構(gòu)，從而使晶圓的性質(zhì)由親水性表面轉(zhuǎn)變?yōu)槭杷员砻妗?/span>

  光刻膠與晶圓表面之間的黏附性問題，除了受到分子鍵合的影響，還受到其他重要因素的影響。如表面的水分就是其中的主要因素，會(huì)減少黏附性，從而造成掀膠和側(cè)向腐蝕。HMDS 涂布是涂膠前對(duì)硅片表面進(jìn)行處理，可以增加硅片表面水分子的接觸角，使硅片表面從親水性轉(zhuǎn)化為疏水性。

  HMDS 涂布機(jī)采用蒸汽涂布的方式。簡單評(píng)價(jià)晶圓的表面黏附性好壞，可以將晶圓進(jìn)行 HMDS 涂布，然后在晶圓的表面滴一滴水珠，然后通過測(cè)量水珠的接觸角，來進(jìn)行晶圓表面黏附性好壞的判斷。接觸角的測(cè)量方法如下圖所示，當(dāng)接觸角角度越大，說明黏附性越好，也就意味著疏水性越強(qiáng)。

HMDS涂布機(jī)，HMDS涂膠烤箱技術(shù)參數(shù)：