光刻膠在曝光完成后，光刻膠需要經(jīng)過(guò)再一次烘烤，因?yàn)檫@次烘烤在曝光后，所以稱(chēng)為“曝光后烘烤”，簡(jiǎn)稱(chēng)后烘或堅(jiān)膜，英文為Post Exposure Bake(PEB)。
曝光后烤膠臺(tái)/潔凈烘箱PEB烘烤的目的--通過(guò)加熱的方式，使得光化學(xué)反應(yīng)能夠充分完成。
對(duì)于酚醛樹(shù)脂體系的光刻膠，PEB可以擴(kuò)散感光劑以消除駐波效應(yīng)。并且，PEB溫度不同時(shí)，感光劑的擴(kuò)散距離不同，消除駐波的效果也不一樣。PEB在110度時(shí)，消除駐波效應(yīng)明顯。
對(duì)于化學(xué)放大型光刻膠，在后烘過(guò)程中，光酸起到催化光刻膠樹(shù)脂的去保護(hù)反應(yīng)(Deprotection Reaction)，又稱(chēng)為脫保護(hù)反應(yīng)。
大量實(shí)驗(yàn)表明，烤膠臺(tái)烘烤溫度的起伏是影響線寬均勻性的主要因素之一。在設(shè)置后烘工藝時(shí)， 對(duì)熱盤(pán)溫度均勻性的要求一般比軟烘的要求更高。
烤膠臺(tái)/潔凈烘箱PEB烘烤性能
智能型烤膠機(jī)
加熱尺寸：220*220mm(可定制),適用于Ø200毫米(8英寸)圓片或200x 200毫米方片以下尺寸產(chǎn)品；
溫度范圍：RT～300°C
溫度精度：0.1°C；
溫度均勻性：≤±0.5℃；
電動(dòng)頂針調(diào)節(jié)高度: 0～30mm；
加熱臺(tái)表面：耐腐蝕硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁制成；
控制器單元：7寸全彩觸摸屏，高級(jí)PLC控制，實(shí)現(xiàn)在特定時(shí)間內(nèi)自動(dòng)升降，可以定時(shí)取片；
潔凈烘箱
無(wú)塵等級(jí)：Class100;
溫度范圍：RT～300/450℃；
溫度均勻度：200℃±3℃;
溫度波動(dòng)度：±0.5℃(空載)
工作尺寸(mm)：
450×450×450
500×500×500
600×700×800(可定制)
可擴(kuò)展功能：
氧濃度檢測(cè)，無(wú)塵無(wú)氧烘箱
智能聯(lián)網(wǎng)功能，MES等工業(yè)自動(dòng)化軟件
掃碼槍?zhuān)瑨叽a溯源，一鍵讀取
自動(dòng)門(mén)控，上位機(jī)程控，機(jī)械手搬運(yùn)產(chǎn)品
