水平式真空式等離子清洗機實現對材料表面的無損清洗，主要是依靠等離子體技術的性質。等離子體是一種由離子、電子、自由基和其他活性粒子組成的電離氣體，它可以對材料表面進行精細且非侵入式的處理。以下是具體的實現方式：
1. 物理作用：
- 干式清洗：等離子體中的高速粒子撞擊材料表面，物理性地移除表面的微粒污染物和松散的污漬，類似于微爆破效果，但對基材的損傷極小。
2. 化學作用：
- 化學反應：等離子體中的活性物種(如氧自由基、氫自由基)與材料表面的有機污染物發生化學反應，將其分解為氣體或易揮發的小分子，這些產物隨后會被抽走，留下干凈的表面。
- 表面改性：等離子體還可以改變材料表面的化學性質，比如提高表面能，改善粘附性，或形成特定的化學官能團，而不會顯著改變材料的物理結構。
3. 溫和的處理條件：
- 低溫處理：等離子清洗通常在較低的溫度下進行，避免了高溫對熱敏感材料的損害。
- 真空環境：在真空條件下，等離子體的生成和作用更加可控，減少了空氣中的雜質對清洗效果的影響。
4. 精準的控制：
- 參數調節：通過精確控制氣體類型、流量、功率和處理時間，可以針對不同材料和污染物類型定制清洗工藝，從而實現高效且溫和的清洗效果。
5. 非接觸式清洗：
- 無機械磨損：與機械清洗不同，等離子清洗無需物理接觸材料表面，因此不會造成劃痕或磨損，對材料表面的損傷幾乎為零。
6. 環保安全：
- 無化學試劑：等離子清洗不需要使用有害的化學溶劑，對環境友好，同時減少了對操作人員的健康風險。
通過上述機制，水平式真空式等離子清洗機能夠對材料表面進行高效、精細且無損的清洗，特別適用于半導體、微電子、光學、生物醫學等高精度行業的表面處理。
