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閱讀：32發布時間：2024-12-7

　　真空系統

　　包括真空泵、真空計等部件。真空泵用于將反應腔室抽成真空，常見的真空泵有機械真空泵、擴散真空泵等。真空計則用于測量腔室內的真空度，以便精確控制真空環境，確保等離子體的產生和清洗效果。

　　等離子體發生系統

　　主要由射頻發生器或微波發生器等能源供應裝置組成。射頻發生器通過射頻電場激發氣體分子，使其電離產生等離子體。不同的功率和頻率設置可以產生不同特性的等離子體，以適應不同的清洗任務。

　　氣體供應系統

　　包括氣體源、氣體流量控制器等。氣體源提供清洗所需的各種氣體，如氬氣用于物理清洗，氧氣用于氧化有機污染物等。氣體流量控制器可以精確控制進入反應腔室的氣體流量，從而調節等離子體的成分和密度。

　　反應腔室

　　是放置被清洗物體的空間，其材質和結構設計需要考慮到真空密封性、耐腐蝕性和對等離子體的適應性。通常采用不銹鋼等材料制成，內部設計有合適的電極和樣品架，以保證等離子體均勻分布在被清洗物體表面。

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