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深圳市君威環?？萍加邢薰?b class="member-infor">
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| 產地 | 國產 | 產水量 | 0.5-100 |
|---|---|---|---|
| 電導率 | 0.055μs/cm | 水質要求 | 市政自來水 |
| 脫鹽率 | 99.5% | 應用領域 | 電子,光電,LED,線路板 |
半導體超純水設備是應用于半導體生產零件清洗的超純水設備，需要符合特定的用水水質標準,半導體超純水設備出水水質要符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國電子工業超純水水質試行標準、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。
半導體超純水設備是應用于半導體生產零件清洗的超純水設備，需要符合特定的用水水質標準,半導體超純水設備出水水質要符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國電子工業超純水水質試行標準、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。
半導體(semiconductor)，指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是較常用的元素半導體;化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：砷化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等;氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁砷、鎵砷磷等。除上述晶態半導體外，還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。
電去離子(EDI)系統主要是在直流電場的作用下,通過隔板的水中電介質離子發生定向移動,利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質進行提純的一種科學的水處理技術。電滲析器的一對電極之間,通常由陰膜,陽膜和隔板(甲、乙)多組交替排列,構成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜).淡室水中陽離子向負極遷移透過陽膜,被濃室中的陰膜截留;水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽膜截留,這樣通過淡室的水中離子數逐漸減少,成為淡水,而濃室的水中,由于濃室的陰陽離子不斷涌進,電介質離子濃度不斷升高,而成為濃水,從而達到淡化,提純,濃縮或精制的目的。
LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
一、產品總述：
EDI超純水設備是用于工業生產用水水的純水制取裝置，根據客戶的需求采用的不同的工藝流程來制取符合客戶生產用純水的標準。系統采用RO+EDI純化水工藝，產水水質滿足客戶的生產用水要求，符合藥典、GMP、FDA要求。系統整體人性化設計，模塊化安裝，占地面積小，操作簡單方便，運行穩定，節能。
相關參數：
進水源：反滲透RO產水，電導率1-10μ?S/cm
PH值： 6.5-9.0
溫度： 5℃--38℃
硬度： ≤0.5ppm(以?CaCO3?計)
顆粒： ≤1μ?m
有機物： TOC?小于?0.5ppm（建議檢測不出）
氧化物： ≤0.02ppm
硅： ≤0.02ppm
重金屬離子： ≤0.1ppm
進水壓力： 0.2—0.4MPa
產水壓力： 產水壓力比濃水壓力高0.05-0.1Mpa，膜堆壓差取決于流量與溫度
我司安排現場安裝、調試、培訓以及定期保養。更多產品型號及價格請致電咨詢。
二、制水工藝（演示）：
三、設備圖片預覽：
四、超純水設備應用范圍
1.化妝品行業：
護膚品生產用純水、洗發水生產用純水、染發劑生產用純水、牙膏生產用純水 、洗手液生產用水。
2.食品、飲料、純凈水行業：
食品生產用水和飲料生產用水以及純凈水的生產
3.電子工業：
鋁箔清洗；電子管噴涂配液；顯相管玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗。
液晶屏屏面清洗和配液：晶體管和集成電路的硅片清洗用水、配制水。
4.電池行業：
蓄電池生產用純水、鋰電池生產用純水、太陽能電池生產用純水。
5.混凝土外加劑配制用純水：
玻璃鍍膜用高純水、玻璃制品清洗用水、燈具清洗用水。
6.紡織印染工業：
印染助劑配制用純水、濕巾用純水、面膜用純水。
7.超聲清洗用純水
8.涂裝行業：
涂料配制用純水、電鍍配制清洗水、電泳漆配制清洗純水。
五、不同出水品質的工藝和材質選項
六、操作系統顯示界面（下為演示界面）：
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