等離子表面處理儀廠家直供作為一種微觀固體表面的處理設(shè)設(shè)備，是一種全新的表面處理方案。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性"組分包括：離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔等目的。

詳細(xì)介紹

一、等離子表面處理儀廠家直供的產(chǎn)品特點(diǎn)：

（1）鄭科探表面處理設(shè)備等離子清洗機(jī)作為一種微觀固體表面的處理設(shè)設(shè)備，是一種全新的表面處理方案。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。

（2）對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔等目的。

二、鄭科探表面處理設(shè)備等離子清洗機(jī)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)等。

三、等離子表面處理儀廠家直供內(nèi)置高純石英倉體，采用了新型的電極結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個(gè)機(jī)箱內(nèi)，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時(shí)與大型清洗機(jī)相比較，從檢測功能與控制功能的設(shè)置上均可一個(gè)面板上操作，特別適用科學(xué)實(shí)驗(yàn)樣品清洗和教學(xué)。

四、滾筒等離子清洗機(jī)針對粉末或者顆粒的360度表面處理設(shè)備，通過旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)石英攪拌罐使樣品處于懸空位置達(dá)到360度清洗。

設(shè)備型號(hào)	KT-Z2DQX	KT-S2DQX	KT-Z5DQX	KT-S2GQX
供電電源	AC220V（AC110V可選)
工作電流	整機(jī)工作電流不大于3.5A(不含真空泵)
射頻電源功率	1000W	150W	300W	150w
射頻頻率	40KHz	13.56MHz
耦合方式	電容耦合
真空度	≤50Pa
腔體材質(zhì)	高純石英
腔體容積	2L(內(nèi)徑110MMX深度220MM)	2L(內(nèi)徑110MMX深度220MM)	5L(內(nèi)徑160MMX深度310MM)	φ100x200mm
觀察窗內(nèi)徑	Φ50	Φ50	Φ70	無
氣體流量	10—100ml/min（其他量程可選）
過程控制	過程自動(dòng)控制	過程手動(dòng)控制	過程自動(dòng)控制	過程手動(dòng)控制
清洗時(shí)間	自動(dòng)開關(guān)
開蓋方式	鉸鏈側(cè)開式法蘭
外形尺寸	150500250mm	450460370mm	530580420mm
重量	20kg	35kg	40kg	40Kg
真空室溫度	小于65°C
冷卻方式	強(qiáng)制風(fēng)冷
標(biāo)配	KF16真空管1米，kf16卡箍2個(gè)，不銹鋼網(wǎng)匣1個(gè)，電源線一根，說明書一本。