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HTGM01型氣敏膜并行合成儀

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HTGM01型氣敏膜并行合成儀HTGM01型氣敏膜并行合成儀[發(fā)明申請(qǐng)?zhí)?8]，采用微滴預(yù)混轉(zhuǎn)移技術(shù)，可高效實(shí)現(xiàn)氣敏材料的摻雜、復(fù)合、表面改性，同步并行合成200種不同組分氣敏膜，具體流程如下：通過蠕動(dòng)泵將六個(gè)原料腔中的液體/懸濁液原料，輸送到預(yù)混針頭

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HTGM01型氣敏膜并行合成儀

HTGM01型氣敏膜并行合成儀 [發(fā)明申請(qǐng)?zhí)?8]，采用微滴預(yù)混轉(zhuǎn)移技術(shù)，可高效實(shí)現(xiàn)氣敏材料的摻雜、復(fù)合、表面改性，同步并行合成200種不同組分氣敏膜，具體流程如下：通過蠕動(dòng)泵將六個(gè)原料腔中的液體/懸濁液原料，輸送到預(yù)混針頭；并通過三維滑臺(tái)控制預(yù)混針頭插入到陣列預(yù)混腔中，控制各通道原料注入比例，實(shí)現(xiàn)多組分預(yù)混；對(duì)陣列預(yù)混腔超聲混合均勻后，經(jīng)轉(zhuǎn)印針頭逐個(gè)定點(diǎn)、定量轉(zhuǎn)印到電極基片上；并對(duì)基片干燥燒結(jié)成膜。

該氣敏膜并行合成儀的主要性能指標(biāo)如下：

1. 同步并行合成氣敏膜數(shù)量：200個(gè)；

2. 原料腔數(shù)量：6個(gè)；

3. 預(yù)混體積1.5 mL，精度0.002 mL；

4. 轉(zhuǎn)印成膜面積：0.4-1 mm 直徑可調(diào)；膜厚：1-3 um（可調(diào)）；

5. 成膜時(shí)間不大于5分鐘/樣。