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成都漢普升科技有限公司
產地 | 國產 |
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成都真空設備廠家 surpass大口徑等離子刻蝕機 半導體刻蝕 離子束刻蝕 反應離子刻蝕 可定制
●致力于電真空、核級裝備、人工晶體材料及薄膜制備設備的技術提升,在服務領域深耕細作,具有較深的技術沉積。
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●本設備主要用于半導體刻蝕,能夠兼容離子束刻蝕和反應離子刻蝕功能,使用氣態化學刻蝕劑與材料產生反應來進行刻蝕,并形成可從襯底上移除的揮發性副產品,通過真空系統排出,特別適合刻蝕熔融石英、硅、光刻膠、聚酷亞胺( PI) 薄膜、金屬等材料。
●說明:根據用戶要求,公司愿與客戶聯合研發,共享知識產權,公司致力于工藝與設備匹配。
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