一、設備簡介：新千年的革命性發(fā)展，HGEST代表了在線除垢技術的水平。HGEST通過電解原理來實現(xiàn)設備保護和除垢目的，主要用于賓館飯店、醫(yī)院、學校、大型公共場所的冷熱水系統(tǒng)、工業(yè)冷卻循環(huán)水、空調系統(tǒng)冷卻循環(huán)水、飲用水等領域。

水在反應室內進行處理，經(jīng)歷了電解的過程。在電解過程中，陰極發(fā)生化學反應產(chǎn)生OH-離子，增加反應室內壁附近的pH值，加強反應室壁附近的堿性環(huán)境。

鄰近反應室壁的擴散層，擾亂了水垢的化學平衡，形成碳酸鈣從水中析出，附著在內壁上。

同時陰極的電流導致溶解的重金屬元素的離子形成沉淀，沉到反應室底部。應該提請注意的是HGEST不是軟水器。HGEST系統(tǒng)沉淀出來的碳酸鈣是那些在冷卻水管路中易于沉積下來的部分。這些有害的沉積，會堵塞管道，產(chǎn)生水垢和增加腐蝕，降低熱交換效率，阻礙生產(chǎn)。

電解水處理器 二、在反應室內壁附近發(fā)生的主要化學反應有：
2H2O (l) + 2e- → H2 (氣) + 2OH- (aq)
堿性溶液中發(fā)生的反應（陰極附近）
CO2(aq)+ OH-(aq) → HCO3- (aq)
HCO3- (aq) + OH- (aq) → CO32-(aq) + H20(液)
Ca2+(aq) 鈣離子可能形成
氫氧化鈣: Ca(OH)2(垢)
碳酸鈣: CaCO3(垢)

電解水處理器 三、陽極附近發(fā)生的化學反應有：
生成氧氣
4HO- → O2(g) + 2H20 + 4e-
游離氯
Cl- – e- → Cl0
氯氣
2Cl-(aq) → Cl2(g) + 2e-
臭氧
O2 + 2HO- – 2e- → O3(g) + H2O
自由基
OH- – e- → OH0
過氧化氫
2H2O – 2 e- → H2O2 + 2H+
氧自由基
2H2O – 2e- → O0 + 2 H+

四、操作說明：

反應室

特殊長壽命鈦基電極，專門為大電流而設計，該電極是杭州桂冠環(huán)保科技有限公司專門為HGEST系統(tǒng)設計的。
微電腦控制的全自動減速機，用于自動清理反應室中形成的水垢。

1.供電和控制單元包括：

一個用于停止系統(tǒng)動作的重置按鈕。根據(jù)不同的處理程序提供相應的可選擇功能。

2.除垢和自清洗過程：

必要的時候，微電腦給出命令，驅動減速機，這個減速機帶動的塑料刮刀與反應室的內部尺寸正好吻合。進水閥門自動關閉，減速機緩慢旋轉，將反應室內壁上的軟性的水垢清掃和刮洗到反應室的底部，接著出水閥門自動打開，通過一臺大功率的泵將積累起來的水垢抽出反應室。
注意：泵是可選項。

標準設計有下面五種流量，大流量設計請和廠家溝通，都可以定做。
HGEST 5， 流量5 m3/hr；HGEST 5表示5m3/h；
HGEST 10，流量10 m3/hr；
HGEST 15，流量15 m3/hr；
HGEST 25，流量25 m3/hr；

HGEST 50，流量50 m3/hr

工作壓力為6bar。

工作溫度50℃。正常使用情況下，HGEST系統(tǒng)保質期12月。
五、總結：根據(jù)多年的經(jīng)驗和研究，在HGEST預結垢系統(tǒng)中，既能沉淀那些傾向沉淀的垢，但也能導致硅石沉淀。硅石沉積是因為在水中與其他礦物質的聚合和沉淀，沉淀其他多價離子與其發(fā)生反應。

硅石的溶解性取決于很多因素，例如：pH 值，溫度，水中微粒的大小，微粒的水合作用以及其它存在的離子。堅硬硅石垢是在碳酸鈣或者其它礦物質的沉積誘導硅石的晶格形成。只有通過控制腐蝕和微生物才可能預防硅石沉淀。