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多弧+磁控濺射復合鍍膜機

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更新時間:2023-12-16 12:00:21瀏覽次數:161次

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產品簡介

該設備可沉積金屬、合金、及多種介質膜,可進行反應濺射;用于硬質膜,裝飾膜及其它功能膜的研究開發。

詳細介紹

  一、應用領域:

  該設備可沉積金屬、合金、及多種介質膜,可進行反應濺射;用于硬質膜,裝飾膜及其它功能膜的研究開發。

  二、性能參數:

  1. Φ500x500立式水冷腔體,

  2. 配DN100多弧靶3只,4″平面圓靶1只;

  3. 平面靶配1000w射頻電源;系統可加偏壓,偏壓電源為脈沖直流,功率2000W;

  4. 工藝加熱溫度500℃,

  5. 樣品架公自轉,公轉轉速0-50rpm可調;

  6. 系統配4路MFC工藝氣體。

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