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日立離子研磨儀器-IM4000PLUS

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更新時間:2022-11-05 15:12:41瀏覽次數(shù):258次

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商鋪產(chǎn)品:25條

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產(chǎn)品簡介

IM4000PLUS是支持斷面研磨和平面研磨(Flat Milling®*1)的混合式離子研磨儀器。借此,可以用于適用于各種諸如對樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)觀察和各類分析等,為評價目的樣品的制作。*1平面研磨(Flat Milling®)是位于日本國內(nèi)的日立*有限公司的注冊商標(biāo)。參數(shù)規(guī)格:項目內(nèi)容IM4000PLUSIM4000PLUS斷面研磨桿平面研磨桿使用氣體Ar(氬)氣加速電壓0 ~ 6 kV研......

詳細介紹

IM4000PLUS是支持斷面研磨和平面研磨(Flat Milling®*1)的混合式離子研磨儀器。借此,可以用于適用于各種諸如對樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)觀察和各類分析等,為評價目的樣品的制作。

*1平面研磨(Flat Milling®)是位于日本國內(nèi)的日立有限公司的注冊商標(biāo)。



參數(shù)規(guī)格:


項目內(nèi)容
IM4000PLUSIM4000PLUS
斷面研磨桿平面研磨桿
使用氣體Ar(氬)氣
加速電壓0 ~ 6 kV
研磨速度(Si材料)500 µm/hr*1 以上-
樣品尺寸20(W)× 12(D)× 7(H)mmΦ50 × 25(H) mm
離子束
間歇照射功能
標(biāo)配
尺寸616(W)× 705(D)× 312(H)mm
重量機體48 kg+回轉(zhuǎn)泵28 kg
附冷卻溫度調(diào)節(jié)功能的IM4000PLUS
冷卻溫度調(diào)節(jié)功能通過液氮間接冷卻樣品、溫度設(shè)定范圍:0°C ~ -100°C
選項
空氣隔離
樣品夾持器
僅支持斷面研磨夾持器-
FP版斷面研磨夾持器100 µm/rotate*2-
用于加工監(jiān)控的顯微鏡倍率 15 × ~ 100 × 雙目型、三目型(支持CCD)




產(chǎn)品特點:


高通量的斷面研磨

配備斷面研磨能力達到500 µm/h*2以上的高效率離子槍。因此,即使是硬質(zhì)材料,也可以高效地制備出斷面樣品。

*2在加速電壓6 kV下,將Si從遮擋板邊緣伸出100 µm并加工1小時時的深度

斷面研磨

  • 即使是由硬度以及研磨速度不同的成分所構(gòu)成的復(fù)合材料,也可以制備出平滑的斷面樣品

  • 優(yōu)化加工條件,減輕損傷

  • 可裝載20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的樣品

斷面研磨的主要用途

  • 制備金屬以及復(fù)合材料、高分子材料等各種樣品的斷面

  • 制備用于分析開裂和空洞等缺陷的斷面

  • 制備評價、觀察和分析所用的沉積層界面以及結(jié)晶狀態(tài)的斷面


斷面研磨加工原理圖


平面研磨(Flat Milling®

  • 均勻加工成直徑約為5mm的范圍

  • 可運用于符合其目的的廣泛領(lǐng)域

  • 可裝載直徑50 mm × 厚度25 mm的樣品

  • 可選擇旋轉(zhuǎn)和擺動(±60度~±90度的翻轉(zhuǎn))2種加工方法

平面研磨(Flat Milling®)的主要用途

  • 去除機械研磨中難以消除的細小劃痕和形變

  • 去除樣品的表層

  • 消除FIB加工的損傷


平面研磨(Flat Milling®)加工原理圖



與日立SEM的樣品結(jié)合

  • 樣品無需從樣品臺取下,就可直接在SEM上進行觀察。

  • 在抽出式的日立SEM上,可按照不同的樣品分別設(shè)置截面、平面研磨桿,因此,在SEM上觀察之后,可根據(jù)需要進行再加工。




冷卻溫度調(diào)節(jié)功能*1


附冷卻溫度調(diào)節(jié)功能的IM4000PLUS


該功能可有效防止加工過程中,由于離子束照射引發(fā)的樣品的溫度上升,所導(dǎo)致樣品的溶解和變形。對于過度冷卻后會產(chǎn)生開裂的樣品,通過冷卻溫度調(diào)節(jié)功能可防止其因過度冷卻而產(chǎn)生開裂。

*1此調(diào)節(jié)功能不是IM4000PLUS的標(biāo)配功能,而是配有冷卻溫度調(diào)節(jié)功能的IM4000PLUS功能。

樣品:鉛焊料


冷卻研磨 常溫研磨





關(guān)鍵詞:離子研磨儀 顯微鏡
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