超高溫降溫技術
可以從高溫300度直接制冷降溫；這樣的原理和功能對使用人員來說有諸多優勢，因為只有膨脹腔體內的導熱介質才和空氣中的氧氣接觸（而且膨脹箱的溫度在常溫到60度之間），可以達到降低導熱介質被氧化和吸收空氣中水份的風險。 高溫時沒有導熱介質蒸發出來，而且不需要加壓的情況下就可以實現-80~190度、-70~220度、-88~170度、-55~250度、-30~300度連續控溫。
采用全密閉管道式設計，采用高效板式熱交換器，降低導熱液需求量的同時，提高系統的熱量利用率，達到快速升降溫度。導熱介質在一個密閉系統中，帶有膨脹容器，膨脹容器中的導熱介質不參與循環，無論是高溫還是低溫，膨脹槽溫度為常溫到60度，可以降低導熱介質在運行中吸收水分和揮發的風險。
型號 SUNDI | 525
525W | 535
535W | 555
555W | 575
575W | 5A10
5A10W | 5A15
5A15W | 4A25
4A25W | 4A38W | 4A60W | 4A95W | 4A130W | 4A200W |
|
介質溫度 范圍 | -45℃～+250℃ |
| 控制系統 | 前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器 |
溫控模式 選擇 | 物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇 |
| 溫差控制 | 設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定 |
| 程序編輯 | 可編制10條程序，每條程序可編制40段步驟 |
| 通信協議 | MODBUS RTU 協議 RS 485接口 |
外接入 溫度反饋 | PT100或4～20mA或通信給定（默認PT100) |
| 溫度反饋 | 設備導熱介質 進口溫度、出口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點溫度 |
導熱介質 溫控精度 | ±0.5℃ | ±1℃ |
反應物料 溫控精度 | ±1℃ | ±1.5℃ |
加熱功率 kW | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 | 38 | 60 | 95 | 130 | 200 |
制 冷 量 | 250℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 | 38 | 60 | 95 | 130 | 200 |
| 100℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 | 38 | 60 | 95 | 130 | 200 |
| 20℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 | 38 | 60 | 95 | 130 | 200 |
| 0℃ | 1.8 | 3 | 5 | 7 | 10 | 15 | 25 | 38 | 60 | 95 | 130 | 200 |
| -20℃ | 0.85 | 1.5 | 2.9 | 4.2 | 6 | 11 | 16 | 26 | 34 | 50 | 70 | 120 |
| -40℃ | 0.25 | 0.45 | 0.9 | 1.5 | 2 | 3.8 | 4.7 | 9 | 12 | 18 | 24 | 43 |
泵流量壓力 max L/min bar | 20 | 35 | 50 | 50 | 110 | 110 | 150 | 200 | 250 | 400 | 400 | 600 |
| 2 | 2 | 2 | 2 | 2.5 | 2.5 | 2.5 | 2.5 | 2.5 | 2.5 | 2.5 | 2.5 |
| 循環泵 | 冠亞磁力驅動泵 | 德國品牌磁力驅動泵 |
| 壓縮機 | 法國泰康、艾默生谷輪、丹佛斯、意大利都凌 |
| 膨脹閥 | 丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥 |
| 蒸發器 | 丹佛斯/高力板式換熱器 |
| 操作面板 | 7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄 |
| 安全防護 | 具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。 |
密閉循環 系統 | 整個系統為全密閉系統，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統在運行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補充導熱介質。 |
| 制冷劑 | R-404A/R507C |
| 接口尺寸 | G3/4 | G3/4 | G3/4 | G3/4 | G1 | G1 | DN32 | DN40 | DN50 | DN50 | DN65 | DN65 |
水冷型 W
溫度 20度 | 600L/H
| 800L/H
| 1500L/H
| 1800L/H
| 2600L/H
| 3200L/H
| 7m3/H
| 12m3/H
| 17m3/H
| 24m3/H
| 32m3/H
| 42m3/H
|
|
外型尺寸 (風) cm | 45*85 *130 | 45*85 *130 | 55*100 *175 | 55*100 *175 | 70*100 *175 | 80*120 *185 | 100*150 *185 | / | / | / | / | / |
外型尺寸 (水) cm | 45*85 *130 | 45*85 *130 | 45*85 *130 | 45*85 *130 | 55*100 *175 | 55*100 *175 | 80*120 *185 | 100*150 *185 | 205*145 *205 | 205*145 *205 | 245*145 *205 | 300*160 *225 |
隔爆尺寸 cm | 45*110 *130 | 45*110 *130 | 55*120 *170 | 55*120 *170 | 70*125 *175 | 80*145 *185 | 105*120 *185 | 100*175 *185 | 205*145 *205 | 205*145 *205 | 245*145 *205 | 300*160 *225 |
正壓尺寸(水) cm | 110*9 5*195 | 110*95 *195 | 110*95 *195 | 110*95 *195 | 110*95 *195 | 135*145 *195 | (135+60) *145*225 | (135+60) *145*225 | (185+60) *145*225 | (185+100) *145*225 | (185+100) *145*225 | (185+150) *165*225 |
| 重量kg | 130 | 180 | 195 | 260 | 320 | 390 | 620 | 820 | 1100 | 1350 | 1680 | 2250 |
電源 380V | AC220V 4.5kW | 6.5kW | 9kW | 11.5kW | 16kW | 23kW | 36kW | 55kW | 89kW | 135kW | 180kW | 280kW |
無錫冠亞制冷加熱系統性能*，高精度、智能型溫度控制，非常寬的溫度控制范圍，從-120℃~350℃，適合多數企業恒溫控制需求。產品控溫精度可達±0.5℃，制冷功率從0.5kW到1200kW均可提供相應產品。典型應用于：高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。
標簽: 制冷加熱控溫系統
制冷加熱控溫系統技術指標：
型號 | SUNDI系列 UST系列 |
控制模式 | 前饋PID，模糊自建樹算法，LNEYA PLC控制器 |
溫度控制模式選擇 | 反應物料溫度控制模式與導熱油介質溫度控制 觸摸屏上自由選擇 |
可編程 | 可編制10條程序，每條程序可編制45段步驟 |
通信協議 | MODBUS RTU協議 RS485 接口 可選配 以太網接口/R232接口 |
溫度反饋 | 設備導熱介質出口溫度、進口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點溫度 溫度反饋：默認PT100 |
物料溫度反饋 | 物料溫度反饋：PT100或4～20mA或通信給定 溫度反饋：默認PT100 |
溫差控制 | 導熱油出口溫度與反應器物料溫度的溫度差可設定可控制 設備進液口溫度與出液口溫度的溫度差值可設定可控制（保護系統安全） |
反應物料溫控精度 | ±1℃ （部分溫度段可控制在±0.5℃） |
導熱介質溫控精度 | ±0.5℃ |
密閉循環系統 | 整個系統為全密閉系統，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統在運行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補充導熱介質。 |
加熱 | 指系統的加熱輸出功率（根據各型號） 加熱器有三重保護，獨立溫度限制器，確保加熱系統安全 功率大于15KW采用調壓器，加熱功率輸出控制采用4～20mA線性控制 |
制冷能力 | 指在不同的溫度具備帶走熱量的能力 |
循環泵流量、壓力 | 小于75L/min 采用LNEYA磁力泵 75L/min及以上采用 LNEYA超寬溫度高能效離心泵 壓力可選擇2bar 3bar 5bar 8bar（小功率設備不可定制壓力） 壓力越大采用的電機功率也越大，會增加系統負載，降低了系統的制冷能力 |
壓縮機 | 根據型號不同選擇不同品牌規格的壓縮機 三菱、思科普、艾默生谷輪、丹佛斯、意大利都凌、德國博客、比澤爾、法國泰康 |
蒸發器 | 高力板式換熱器 |
油分離器 | 艾默生/冠亞 |
干燥過濾器 | 丹佛斯/艾默生 |
避震管 | 卡斯托/帕麗斯 |
壓控 | 丹佛斯/艾默生/奉申 |
膨脹閥 | 艾默生熱力膨脹閥/艾默生電子膨脹閥/丹佛斯熱力膨脹閥 不同溫度及冷量選擇不同的膨脹閥 |
操作面板 | 無錫冠亞定制7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示/EXCEL 數據導出 1、選配西門子防爆觸摸屏（將操作面板外置到現場區域） 2、選配符合GMP、FDA操作及記錄模塊（操作員使用記錄、數據記錄、報警記錄等） |
安全防護 | 具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。 |
制冷劑 | R-404A / R404A R23混合制冷劑/ R404A R23 R14混合制冷劑 |
接口尺寸 | G1/2、G3/4、G1、DN25 DN32 DN40 DN50 DN65 DN80 DN100（PN10 RF） |
水冷型 W | 帶W型號為水冷型 低于-60度設備建議水溫7度～25度 |
水冷冷凝器 | 套管式換熱器、板式換熱器、列管冷凝器 帕麗斯、沈氏、高力、金典、曉靈等 |
電源 | AC 380V 50HZ 三相五線制 個別小功率型號220V 50HZ 單相 可定制460V 60HZ、220V 60HZ 三相 |
外殼材質 | 標準外殼SUS 304，可定制噴塑 （標準顏色7035） |
隔離防爆 | 可定制隔離防爆（EXdIIBT4) 無錫冠亞防爆產品安裝許可證號：PCEC-2017-B025 |
正壓防爆 | 可定制正壓防爆(EXPXdmbIICT4) 正壓系統必須是水冷設備 無錫冠亞防爆產品安裝許可證號：PCEC-2017-B025 |
自加壓系統 | 選配自加壓3bar系統，系統的溫度可擴展，膨脹罐為常壓 KDOC-80運用在加壓系統中可以使用溫度到250度（-85度～250度） KDOC-220運用在自加壓系統中可以使用溫度到320度（-50度～320度） KDOC-210運用在自加壓系統中可以使用溫度到300度（-70度～300度） |
流量/壓力 | 選配流量/壓力傳感器，觸摸屏上顯示流量和壓力 選配 控制流量/壓力 |
一拖二系統 | 可選配一拖二系統（整體造價相對購買兩臺一對一系統要低） 一臺制冷加熱系統內部安裝有兩個獨立的循環系統、制冷系統、加熱系統，共用膨脹系統、電氣系統 |
高放熱控制 | 可定制高放熱量控制系統算法及部件 |
微通道反應器控溫組件 | 可選配應用于微通道反應器控溫組件（泵、內循環系統、控制算法、制冷） |
無錫冠亞制冷加熱系統性能*，高精度、智能型溫度控制，非常寬的溫度控制范圍，從-120℃~350℃，適合多數企業恒溫控制需求。產品控溫精度可達±0.5℃，制冷功率從0.5kW到1200kW均可提供相應產品。典型應用于：高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。
制冷加熱控溫系統的典型應用
高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制
微通道反應器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試
組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空窒制冷加熱恒溫控制
制冷加熱控溫系統優點與功能
溫度范圍從-120℃至350℃，性能*、無二，高精度、智能型溫度控制。
較高的制冷功率從0.5到1200kW，的生產穩定性和可重復性結果
多功能報警系統和安全功能，采用板式換熱器、管道式加熱器提高加熱和制冷速率
7寸、10寸彩色TFT觸攘屏圖形顯示，采用磁力驅動泵，沒再軸封泄漏問題
全密閉系統，延長導熱液體壽命，非常寬的溫度范圍，無需更換液體介質
超高溫降溫技術，可以從高溫300度直接制冷降溫
這樣的原理和功能對使用人員來說有諸多優勢： 因為只有膨脹腔體內的導熱介質才和空氣中的氧氣接觸（而且膨脹箱的溫度在常溫到60度之間），可以達到降低導熱介質被氧化和吸收空氣中水份的風險。
高溫時沒有導熱介質蒸發出來，而且不需要加壓的情況下就可以實現-80～190度、-70～220度、-88～170度、-55～250度、-30～300度連續控溫。
采用全密閉管道式設計，采用高效板式熱交換器，降低導熱液需求量的同時，提高系統的熱量利用率，達到快速升降溫度。導熱介質在一個密閉系統中，帶有膨脹容器，膨脹容器中的導熱介質不參與循環，無論是高溫還是低溫，膨脹槽溫度為常溫到60度，可以降低導熱介質在運行中吸收水分和揮發的風險。
無錫冠亞制冷加熱系統性能*，高精度、智能型溫度控制，非常寬的溫度控制范圍，從-120℃~350℃，適合多數企業恒溫控制需求。產品控溫精度可達±0.5℃，制冷功率從0.5kW到1200kW均可提供相應產品。典型應用于：高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。
