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長沙沛鈺進出品貿易有限公司
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產品詳情型號：OTF-1200X-III-HPCVD-SE產品概述：OTF-1200X-III-HPCVD-SE是一款HPCVD（物理/化學混合氣相沉積）系統，帶有的原料推進系統和1350℃原位蒸發槍
型號：OTF-1200X-III-HPCVD-SE
產品概述：OTF-1200X-III-HPCVD-SE是一款HPCVD（物理/化學混合氣相沉積）系統，帶有的原料推進系統和1350℃原位蒸發槍。原料推進系統和同時/依次將3種反應原料推入到爐管中（可設定推入位置和推進速度），以達到適合的蒸發溫度。溫度可控型原位蒸發槍，溫度可達1350℃，也可多固體原料原位蒸發。所以此系統可對4種固體或液體源供蒸發。此設備適合各種HPCVD實驗，特別適用于制備多層二維晶體材料。操作面板為PLC觸摸屏，用戶可設置進料速度，進料位置及實時監測蒸發原料的溫度。
| 爐體結構 | 的原料推進系統可在真空或氣氛保護環境下同時/依次推進3種原料進入到管式爐中（并可實時監測其溫度），溫度可控型原位蒸發槍，溫度可達1350℃，適合用HPCVD法生長多層膜
·爐體為三溫區開啟式管式爐，由三個獨立的溫控系統控制每個溫區，其控溫精度可達±0.1℃
·雙層殼體結構，并帶有風冷系統
·采用氧化鋁纖維作為爐膛材料，表面涂有高溫氧化鋁涂層，可提高加熱效率，和延長使用壽命
·爐體開啟式設計，便于跟換爐管，并且帶有開啟斷電功能，保證操作安全 |
| 電源要求 | ·單相208~240VAC
·功率9KW（需60A的空氣開關） |
| 加熱區 | ·三個加熱區，每個加熱區長度：300mm
·總加熱區長度：900mm |
| 恒溫區 | 恒溫區長度：625mm(±2℃） （三個溫區設置同樣的加熱溫度） |
| 工作溫度 | ·工作溫度：1200℃（<1hr）
·連續工作溫度：100~1100℃ |
| 升溫速率 | ≤ 10°C /min |
| 原料推進系統&蒸發槍 | 的原料推進系統可在真空或氣氛保護環境下同時/依次推進3種原料進入到管式爐中（并可實時監測其溫度），利用推送系統可將3個不同蒸發源同時/依次送入3個獨立的小石英管中，精確地找到所需溫度，保證實驗精確性和重復性
·蒸發槍：采用鎢線圈加熱，氧化鋁坩堝裝料，其溫度可達1350℃，控溫精度±1℃ |
| 坩堝移動控制 | ·坩堝的移動速度和移動距離通過步進電機驅動，可設定控制
·移動距離: 530mm （精度1mm） |
| 沉積樣品臺 | ·特殊設計樣品臺，帶有手動遮擋板，放置原料交替試導致所制備樣品污染
·可手動調節樣品臺在爐管中的位置
·可選擇水平樣品臺，或傾斜式樣品臺 |
| 溫度控制系統 | ·三個溫區由三個獨立的溫控系統控制，采用PID方式調節溫度，可設置30段升降溫程序
·歐陸儀表控制，控溫精度可達±0.1℃
·帶有超溫和斷偶報警
·三個K型熱偶（每個溫區1個） |
| 管式爐配置 | ·爐管，采用高純石英管，尺寸為Φ130（外）mm×Φ122（內）mm×1200mm（長）
·配有2個氧化鋁管堵，防止熱輻射（加熱前管堵必須放入到爐管內）
·可選購石英管堵，保證反應環境潔凈 |
| 真空計 | ·防腐型復合真空計（皮拉尼和隔膜規）
·測量范圍：3.8E-5 ~ 1125 torr |
| 真空泵&真空度 | ·真空度：10E-2 torr（采用機械泵），10-E5 torr(采用分子泵) 可在本公司選用各種真空泵 |
| 氣體流量控制系統 | 配有4通道氣體流量控制系統，采用觸摸屏設定參數 |
| 循環水冷機 | 設備采用水冷不銹鋼密封法蘭，所以配有循環水冷機 |
| 設備尺寸 | 4000×600×1500m |
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| 質量認證 | ·CE認證
·所有電器元件（≧24V）都通過了UL/MET/CSA認證 |
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