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OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐是一款快速蒸發(fā)管式爐，專(zhuān)門(mén)用于PVD或CSS法制作薄膜；其爐管外徑為11″，爐管內(nèi)載樣盤(pán)可放置3″ 的圓形或2″×2″的方形基片；OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐加熱元件為兩組紅外燈管，分別安裝在腔體頂端和底部，升溫速率高達(dá)20℃/s ，可迅速使?fàn)t腔內(nèi)溫度升高；冷卻速率：>10℃/s，可在鍍膜后使樣品快速降溫；溫控系統(tǒng)采用PID30段程序化控制，控溫精度為±1℃，并且儀器面板上帶有RS485接口，若儀表內(nèi)配有控溫軟件，就可將升溫程序和曲線(xiàn)導(dǎo)出。

產(chǎn)品型號(hào)	OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜（CSS）爐
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備需選配自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz（20A空氣開(kāi)關(guān)），必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭） 4、工作臺(tái)：設(shè)備為落地式，占地面積1m²以上 5、通風(fēng)裝置：需要
主要特點(diǎn)	1、為了減小熱輻射和達(dá)到快速冷卻的效果，加熱元件被嵌在水冷機(jī)構(gòu)上。 2、緊貼頂部加熱元件上裝有一氮化鋁基片（Ø76mm×0.5mm），使得樣品基片上的溫度更加均勻。 3、3″的石墨坩堝可放于底部加熱元件上，用于盛放蒸發(fā)料。 4、真空法蘭通過(guò)兩個(gè)硅膠O型圈進(jìn)行密封，通過(guò)機(jī)械泵其腔內(nèi)真空度可達(dá)10^-2torr，通過(guò)分子泵真空度可達(dá)10^-5torr。 5、兩個(gè)真空法蘭都可以通過(guò)手動(dòng)操作進(jìn)行上下移動(dòng)。 6、一個(gè)數(shù)字式真空顯示計(jì)安裝在法蘭頂部，可以精確測(cè)量腔內(nèi)真空度。
技術(shù)參數(shù)	1、電源：?jiǎn)蜗?/span>AC208V-240V（需20A的空氣開(kāi)關(guān)） 2、真空腔體：高純石英管，外徑280mm，內(nèi)徑275mm，高229mm 3、加熱元件：兩組IR紅外燈管，額定功率800W，總功率1600W 4、熱電偶：S型熱電偶2個(gè)，分別安裝于上下法蘭上 5、工作溫度：兩個(gè)加熱區(qū)域單獨(dú)工作的溫度≤650℃，兩加熱區(qū)域溫差≤350℃ 6、加熱速率：>8℃/s 7、冷卻速率：>10℃/s（600℃-100℃） 8、真空法蘭：316不銹鋼制作，配有1個(gè)KF-25接口、2個(gè)1/4″軟管接頭 9、真空計(jì)：數(shù)字式真空顯示計(jì)
可選配件	1、PC控溫軟件 2、兩路混氣系統(tǒng) 3、多路浮子混氣系統(tǒng) 4、多路質(zhì)子混氣系統(tǒng) 5、真空泵 6、水冷機(jī)