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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

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產品簡介

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

詳細介紹

產品簡介：VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍，一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜，一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。

產品型號	VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
產品型號	VTC-600-2HD
安裝條件	本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風裝置：需要
主要特點	1、配置兩個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。 2、可制備多種薄膜，應用廣泛。 3、體積小，操作簡便。
技術參數	1、電源電壓：220V 50Hz 2、功率：<2KW（不含真空泵） 3、極限真空度：9.0×10^-4Pa 4、樣品臺加熱溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據實際需要提升溫度） 5、靶槍數量：2個（可選配其他數量） 6、靶槍冷卻方式：水冷 7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同） 8、直流濺射功率：500W；射頻濺射功率：300W。（靶電源種類可選，可選擇兩個直流電源，也可選擇兩個射頻電源，或選則一個直流一個射頻電源） 9、載樣臺：Ø140mm，可根據客戶需求選配加裝偏壓功能，以實現更高質量的鍍膜。 10、載樣臺轉速：1rpm-20rpm內可調 11、工作氣體：Ar等惰性氣體 12、進氣氣路：質量流量計控制2路進氣，一路為100SCCM，另一路為200SCCM。
產品規格	1、主機尺寸：500mm×560mm×660mm 2、整機尺寸：1300mm×660mm×1200mm 3、真空室規格：φ300×300mm 4、重量：160kg
標準配件	1	直流電源控制系統	1套
	2	射頻電源控制系統	1套
	3	膜厚監測儀系統	1套
	4	分子泵（德國進口）	1臺
	5	冷水機	1臺
	6	冷卻水管（Ø6mm）	4根
可選配件	金、銦、銀、白金等各種靶材