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開啟式單溫區低真空CVD系統OTF-1200X-F3LV

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更新時間：2023-06-30 21:22:52瀏覽次數：138次

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沈陽科晶自動化設備有限公司

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產品簡介

開啟式單溫區低真空CVD系統OTF-1200X-F3LV

詳細介紹

產品簡介：開啟式單溫區低真空CVD系統OTF-1200X-F3LV是由開啟式單溫區管式爐、機械泵、三通道浮子混氣系統組成，可為CVD或擴散實驗提供1-3種的混合氣體，真空度可達10^-2torr。

產品型號	開啟式單溫區低真空CVD系統OTF-1200X-F3LV
安裝條件	本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：不需要 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內需充注氣體，需自備氣瓶氣源 4、工作臺：尺寸600mm×600mm×700mm，承重150kg以上 5、通風裝置：需要
主要特點	1、雙層殼體，配有循環風冷系統，殼體溫度<60℃。 2、內爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層，可以提高加熱效率，同時延長使用壽命。 3、采用PID控制器，可以設置30段升降溫程序。 4、設有超溫及斷偶報警功能。 5、已通過CE認證。
技術參數	1、電源：AC 220V 50/60Hz 2.5KW 2、石英管：外徑Ø80mm，內徑Ø75mm，長1000mm 3、加熱元件：摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲 4、加熱區域：440mm 5、恒溫區域：150mm 6、工作溫度：1200℃，連續工作1100℃ 7、升降溫速率：20℃/min 8、控溫精度：±1℃ 9、真空度：5.5×10^-3torr（機械泵），10^-4torr（分子泵） 10、泄漏率：<5mtorr/min 11、浮子流量計：3個；10ml/min-100ml/min，16ml/min-160ml/min，25ml/min-250ml/min 12、壓力表：4個
產品規格	尺寸：管式爐550mm×380mm×520mm，混氣系統600mm×600mm×597mm；重量：60kg