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薄膜厚度測量系統TF200

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產品簡介

薄膜厚度測量系統TF200

詳細介紹

產品簡介：TF200薄膜厚度測量系統利用薄膜干涉光學原理，對薄膜進行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面，探頭同位接收反射光線。TF200根據反射回來的干涉光，用反復校準的算法快速反演計算出薄膜的厚度。測量范圍1nm-3mm，可同時完成多層膜厚的測試。對于100nm以上的薄膜，還可以測量n和k值。

產品型號	TF200-VIS	TF200-EXR	TF200-DUV	TF200-XNIR
主要特點	快速、準確、無損、靈活、易用、性價比高
應用領域	半導體（SiO2/SiNx、光刻膠、MEMS，SOI等） LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亞酰胺ITO等) LED (SiO2、光刻膠ITO等）觸摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率測試等) 汽車(防霧層、Hard Coating DLC等）醫學（聚對二甲苯涂層球囊/壁厚藥膜等）
波長范圍	380-1050nm	380-1700nm	190-1100nm	900-1700nm
厚度范圍	50nm-40um	50nm-300um	1nm-30um	10um-3mm
準確度（取決于材料0.4%或2nm之間取較大者）	2nm	2nm	1nm	10nm
精度	0.2nm	0.2nm	0.2nm	3nm
入射角	90°	90°	90°	90°
樣品材料	透明或半透明	透明或半透明	透明或半透明	透明或半透明
測量模式	反射/透射	反射/透射	反射/透射	反射/透射
光斑尺寸（可選微光斑附件。）	2mm	2mm	2mm	2mm
是否能在線	是	是	是	是
掃描選擇	XY可選	XY可選	XY可選	XY可選