PAVOS高功率法拉第光隔離器，1010-1080nm，被動安裝，達400W，輸入偏振可調
PAVOS法拉第光隔離器特點：
-被動；不需要調整
-性能達400W
-由于更短的轉子材料，改進了熱透鏡效應
-可調諧激光功率和工作溫度
-與標準PAVOSa相比，吸收和熱透鏡焦移的1/10
-理論上比非線性折射率低10倍
-可選EOT、最短光程的PAVOS Ultra版本
PAVOS高功率法拉第光隔離器應用：
-高平均功率應用
-超快研發
-微電子學
-醫療系統和設備制造
-微加工
-粒子加速
-消除放大系統中的ASE，包括CPA、MOPA和再生放大鎖模激光器
-保護激光免受由照射高反射材料引起的背反射
-防止種子激光器和其他單頻激光器的頻率不穩定
一般的EOT隔離器所使用的的功率不大，面對大功率激光器使用的要求時，往往面臨著熱透鏡效應高等而影響使用效果。EOT高功率法拉第光隔離器可以解決以上客戶的顧慮，這種EOT隔離器又叫做EOT高功率隔離器、PAVOS法拉第光隔離器、PAVOS高功率法拉第光隔離器、大功率光隔離器、高功率法拉第隔離器、高功率光隔離器等等。
EOT高功率法拉第光隔離器，為滿足當今固態激光器防止反饋和背反射，通過性設計，以現有PAVOS設備系列為基礎，具有競爭力的價格增加了靈活性和性能。這種PAVOS法拉第光隔離器有30多年的經驗，可滿足高功率和高能量的1µm（1010nm至1080nm）激光器的需求而設計。傳輸速率高，依靠高Verdet常數、低吸收材料的法拉第效應來向前旋轉線偏振光平面，并在反向中額外旋轉45°的非互易旋轉。
原理上有什么優勢呢？法拉第隔離器提供大約1/10的吸收和熱透鏡焦移a，與標準PAVOS+隔離器或隔離器相比，理論上可以提供低十倍的非線性折射率。這導致更少的克爾透鏡焦移，以防止災難性的全光束自聚焦。
覆蓋高功率和高能量1010~1080nm，其性能穩定，平均功率高達400W。
平均透過率>93%,輸入極化和輸出極化支持水平、45°、垂直方向。
損傷閾值10J/cm2@10ns、1J/cm2@8ps、1MW/cm2 CW，儲存溫度在-20~60℃左右，可定制工廠可調溫度范圍，滿足客戶個性化的使用要求。
大功率光隔離器輸出端可選波片、可提供精密安裝、提供精確的拒絕光束指向、可定制等等。
EOT高功率法拉第光隔離器規格：
| | PAVOS+ 4mm
光隔離器 | PAVOS+ Ultra 4mm
法拉第隔離器 | PAVOS
光隔離器 | PAVOS
超高功率光隔離器 |
| 波長 | 1010~1080nm |
| 有效孔徑 | 4mm | 4mm | 2mm,5mm | 8、12、15、20、25、35、45mm | 5mm,8mm,12mm |
| 功率 | | Min≥125W | Typ≥150W | --- | --- | --- |
| 平均功率 | | 1~300W | --- | --- | --- |
| 峰值透過率 | ≥98% | ≥93% | ≥95% | >95%b | >92% | >95% |
| PeakExtinction | ≥33dBa | ≥30dBd
≥27dBe | ≥33dBd
≥30dBe | >33dBb
Typical>37dB | >30dB
Typical>35dB | >33dBbTypical
>27dBmin |
| 輸入極化 | 水平、45°、垂直 |
| 輸出極化 | 水平、45°、垂直 |
| PeakRot@ion | 45°±2.0° | 45°±2.0° | 45°±1.0° | 45°±0.5° | 45°±2° | 45°+2/-5° |
| 損傷閾值 | 10J/cm2@10ns
1J/cm2@8ps
1MW/cm2CW | ≥6J/cm2@10ns
≥0.6J/cm2@8ps | ≥10J/cm2@10ns
≥1J/cm2@8ps | 10J/cm2@10ns
1J/cm2@8ps
1MW/cm2CW | 7J/cm2@10ns
600mJ/cm2@8ps |
| 儲存溫度 | -20~60oC | -20~60oC | -40~70oC | -10~60oC | -40~70oC |
| 工廠可調溫度范圍 | 10~28oC | ---- | ---- | 10~30oC | 可定制 | 10~30oC |
| 光束指向性 | ---- | ---- | ---- | <5mrad | Uponrequest | <5mrad |
| 可選 | 輸出端可選波片
可提供精密安裝
提供精確的拒絕光束指向
鼓勵定制請求 | 提供輸入/輸出波片
精密安裝能力
可定制 | 提供輸入/輸出波片
可提供精密安裝
提供精確的拒絕光束指向
鼓勵定制請求 | 提供輸入/輸出波片
精密安裝能力
提供精確的拒絕光束指向
可定制 |
| 應用 | 消除放大系統中的ASE，包括CPA、MOPA和再生放大鎖模激光器；
保護激光免受由照射高反射材料引起的背反射；
防止種子激光器和其他單頻激光器的頻率不穩定； | 高平均功率應用
超快研發
微電子學
醫療系統和設備制造
微加工
粒子加速 | 超快、脈沖和CW激光器
微電子學
醫療系統和設備制造
微加工
粒子加速 | 高平均功率應用
超快研發
微電子學
醫療系統和設備制造
微加工
粒子加速 |
