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高光譜成像儀

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更新時(shí)間：2022-09-12 16:42:14瀏覽次數(shù)：657次

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深圳維爾克斯光電有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

型號(hào)GRAND-EOS的高光譜成像儀可用于全局成像，結(jié)合了高光譜顯微鏡系統(tǒng)和高光譜寬視場(chǎng)成像平臺(tái)，可以提供微觀模式和宏觀模式，波長(zhǎng)范圍覆蓋VNIR（400-1000nm）和SWIR（900-1700nm）。

詳細(xì)介紹

超高光譜成像儀，波長(zhǎng)范圍覆蓋400-2500nm

GRAND-EOS高光譜成像儀內(nèi)部集成了S-EOS 1.7，S-EOS 2.5或V-EOS凝視型高光譜相機(jī)，自身就是一個(gè)小型測(cè)試平臺(tái)。

GRAND-EOS高光譜成像儀是由Photon ect公司研發(fā)的一個(gè)全局成像的超快高光譜成像儀，它將成像技術(shù)與光譜技術(shù)相結(jié)合，結(jié)合了高光譜顯微鏡系統(tǒng)和高光譜寬視場(chǎng)成像平臺(tái)，可以提供微觀模式和宏觀模式，波長(zhǎng)范圍覆蓋VNIR（400-1000nm）和SWIR（900-1700nm）。

由于搭載了Photon ect的：布拉格光柵濾光技術(shù)，可以篩選光的波段，并且提供高通過量，高效率的非偏振波長(zhǎng)的光，利用這個(gè)濾光技術(shù)，可以大視場(chǎng)成像，對(duì)用戶想要的任意波長(zhǎng)范圍進(jìn)行掃描，利用一個(gè)百萬(wàn)像素的傳感器，可以獲得樣品表面數(shù)百萬(wàn)個(gè)位置點(diǎn)上的光譜信息GRAND-EOS專為反射，透射和發(fā)光成像而設(shè)計(jì)，非常適合基礎(chǔ)研究和工業(yè)應(yīng)用。

GRAND-EOS超高光譜成像儀產(chǎn)品規(guī)格參數(shù)：

型號(hào)	V-EOS	S-EOS1.7	S-EOS 2.5
光譜范圍	400 - 1000nm	900 - 1620 nm	900 - 2500 nm
光譜分辨（FWHM）	< 2 nm	< 4 nm	< 5 nm
照相機(jī)	sCMOS	InGaAs相機(jī) (ZephIR™1.7 or Alizé™1.7)	MCT 相機(jī) (ZephIR™2.5)
波長(zhǎng)精度	FWHM/8
光譜通道	連續(xù)可調(diào)
入口狹縫尺寸	每個(gè)波長(zhǎng)無(wú)狹縫/全視野測(cè)量
曝光控制	物理規(guī)范™ 軟件控制
標(biāo)準(zhǔn)視場(chǎng)（可定制）	160毫米x 160毫米，20毫米x 20毫米，可根據(jù)要求提供其他視野
預(yù)處理	圖像穩(wěn)定，空間濾波，統(tǒng)計(jì)工具，光譜提取，數(shù)據(jù)歸一化，光譜校正
高光譜數(shù)據(jù)格式	HDF5, FITS
軟件	PHySpec，Windows10-64位
尺寸	150 cm x 85 cm x 82 cm
重量	80kg
電源要求	120 VAC / 12 A / 60 Hz，230 VAC / 12 A / 50 Hz
可選附件	光度校準(zhǔn)，激光激發(fā)，白光照明，微成像模式：5倍，10倍。