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沈陽華儀時代科技有限公司
低真空鍍膜儀 Leica EM ACE200
Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀,可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發鍍碳膜功能,或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求,也可用于X-射線能譜及波譜分析,或者TEM銅網鍍碳膜。全自動電腦控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等全過程,一鍵操作。采用當下流行的觸摸屏控制,簡單方便。
主要技術參數
• 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發鍍碳模式,或者雙模式,可選輝光放電(用于網格表面親水化)
• 設計脈沖式碳絲蒸發方式,可控制碳膜厚度
• 可選石英膜厚檢測器,控制鍍膜厚度,精度達0.1nm
• 全自動程序控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等過程
• 觸摸屏控制,簡單方便
• 真空度≤7×10 -3 mbar
• 濺射電流:0-150mA可調
• 方形樣品倉設計,樣品倉尺寸:140mm(寬)×145mm(深)×150mm(高)
• 工作距離調節范圍:30mm-100mm
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