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ME-L 穆勒矩陣橢偏儀

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

ME-L 是一款科研級(jí)全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入，其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù)，包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等。

詳細(xì)介紹

一、概述

ME-L 是一款科研級(jí)全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入，其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù)，具備 1 全穆勒矩陣測(cè)量技術(shù)， 2 雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制技術(shù)，3 超級(jí)消色差補(bǔ)償器設(shè)計(jì)技術(shù)，4 納米光柵表征測(cè)量技術(shù) 等技術(shù)。可應(yīng)用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表征分析，代表當(dāng)今橢偏行業(yè)比較高的技術(shù)水平。

■ 雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器(DRC)配置一次測(cè)量全部穆勒矩陣16個(gè)元素；

■ 配置自動(dòng)變角器、五維樣件控制平臺(tái)等優(yōu)質(zhì)硬件模塊；

■ 軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O(shè)計(jì)，易上手、操作便捷；

■ 豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫，保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力

二、產(chǎn)品特點(diǎn)

■ 采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)；

■ 可實(shí)現(xiàn)穆勒矩陣數(shù)據(jù)處理，測(cè)量信息量更大，測(cè)量速度快、數(shù)據(jù)更加精準(zhǔn)；

■ 基于雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器配置，可一次測(cè)量獲得全穆勒矩陣的16個(gè)元素，相對(duì)傳統(tǒng)光譜橢偏儀可獲取更加豐富全面測(cè)量信息；

■ 頤光技術(shù)確保在寬光譜范圍內(nèi)，提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜；

■ 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料；

■ 集成對(duì)納米光柵的分析，可同時(shí)測(cè)量分析納米結(jié)構(gòu)周期、線寬、線高、側(cè)壁角、粗糙度等幾何形貌信息；

三、產(chǎn)品應(yīng)用

■ 半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu)：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等；

■ 半導(dǎo)體周期性納米結(jié)構(gòu)：納米光柵，套刻誤差，T型相變存儲(chǔ)器等；

■ 新材料，新物理現(xiàn)象研究：材料光學(xué)各向異性，電光效應(yīng)、彈光效應(yīng)、聲光效應(yīng)、磁光效應(yīng)、旋光效應(yīng)、Kerr效應(yīng)、Farady效應(yīng)等；

■ 平板顯示：TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等；

■ 光伏太陽能：光伏材料（如Si3N4、Sb2Se3、Sb2S3、CdS等）反射率，消光系數(shù)測(cè)量，膜層厚度及表面粗糙度測(cè)量等；

■ 功能性涂料：增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學(xué)涂層，以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等；

■ 生物和化學(xué)工程：有機(jī)薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理等；

■ 塊狀材料分析：固體（金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等）或液體（純凈物或混合物）的折射率n和消光系數(shù)k表征，玻璃新品研發(fā)和質(zhì)量控制等。

四、技術(shù)規(guī)格

型號(hào)	ME-L
應(yīng)用	科研級(jí)/企業(yè)級(jí)
基本功能	Psi/Delta、R/T、穆勒矩陣等光譜
分析光譜	380-1000nm（支持?jǐn)U展至193-2500nm）
單次測(cè)量時(shí)間	1-8 s
重復(fù)性測(cè)量精度	0.005nm
精度（直通測(cè)量空氣）	橢偏參數(shù)：Ψ= 45±0.05° Δ= 0±0.1°
	穆勒矩陣：對(duì)角元素 m=1±0.005
	非對(duì)角元素 m=0±0.005
折射率重復(fù)性精度	0.0005
光斑大小	大光斑：2-4mm
	微光斑：200μm/100um
	超微光斑：≤50um