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更新時間:2024-02-02 14:26:40瀏覽次數(shù):303次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線A Residual Gas Analyser configured for demanding UHV applications. Measures the concentration of gases and vapours in real time.
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離子源為鍍金離子源,適合應(yīng)用在總壓小于5 x 10-10mbar的領(lǐng)域,其系統(tǒng)與EPIC離子/分子分析質(zhì)譜儀兼容。
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·氧化物涂層雙銥絲的離子源
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