污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
鋼研納克檢測技術股份有限公司
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Plasma 1000 ICP光譜儀
1. 分析流程全自動化控制，實現軟件點火、氣路智能控制功能；
2. 輸出功率自動匹配調諧，功率參數程序設定；
3. 優良的光學系統，*的控制系統，保證峰位定位準確，信背比優良；
4. 極小的基體效應；
5. 測量范圍寬，超微量到常量的分析，動態線性范圍5—6個數量級；
6. 檢出限低，大多數元素的檢出限可達ppb級；
7. 良好的測量精度，穩定性相對標準偏差RSD≤1.5%（5ppm），優于國家標準（JJG768-2005）；
8. Rf輸出功率的范圍750-1500W，輸出功率穩定性小于0.1%；
9. 光電倍增管的負高壓可在0-1000V范圍內獨立可調，可根據不同元素的不同譜線單獨設置條件，和全譜儀器比較有更好的檢出限；
10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全；
11. 高精度的光室恒溫系統，保證儀器優良的長短期精度；
12. 多通道蠕動泵進樣，保證儀器進樣均勻，工作穩定；
13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃，在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m（JJG768-2005規定小于10V/m）。
14. 具有較高的譜線分辨率，能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線，能分出鐵的四重峰。
15. 人性化的軟件設計，操作方便，升級。功能強大、友好的人機界面分析軟件,可在測定過程中，進行數據處理，方法編制和結果分析，是真正的多任務工作軟件；該軟件數據處理功能強大，提供了多種方法，如內標校正、IECS和QC監測功能等，可獲得的背景扣除點以消除干擾；對輸出數據可直接打印或自動生成Excel格式的結果報告。
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