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太倉希德機械科技有限公司
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1L實驗室真空乳化機在真空或壓力環境下，實現物料的分散、乳化、均質、混合等工藝過程。分散、均質、乳化、反應、發酵、膏霜制備、高分子聚合、合成反應等。
1L實驗室真空乳化機,真空均質乳化反應釜系統,高剪切分散設備
LD標準系統的處理量有0.5L、1L、2L、5L、10L等系列，能在真空或壓力環境下，實現物料的分散、乳化、均質、混合等工藝過程。分散、均質、乳化、反應、發酵、膏霜制備、高分子聚合、合成反應等。
可配備多種高效宏觀攪拌器(可選)、高剪切均質乳化機（可選）以及可靠的真空密封系統和溫控系統，多種傳感檢測系統能在實驗室環境模擬工業化生產。是常規成套實驗室設備的重點選擇對象，符合成套設備的所有模擬條件。
應用領域：
分散、均質、乳化、反應、發酵、膏霜制備、高分子聚合、合成反應等
真空、攪拌、乳化均質條件，適用膏霜制備、功能高分子合成、有機合成、乳化瀝青、改性瀝青等
LD-1L技術參數：
品牌型號： | 【SID/希德】LD-1L |
電 源： | 220V/50Hz |
zui小攪拌量： | 300ml |
zui小乳化量： | 500ml |
zui大處理量： | 1000ml |
zui高工作溫度： | 120° |
加熱方式： | 水浴、油浴循環 |
可達真空： | -0.08Mpa（正壓可選） |
zui大處理粘度： | 100000mpas |
攪拌機功率： | 120W |
攪拌機轉速： | 10~2000rpm |
槳葉配置： | 錨式刮壁攪拌槳 |
乳化均質機功率： | 500W【*】 |
乳化均質機轉速： | 10000~28000rpm |
乳化工作頭型號： | 20BCS |
反應釜蓋開口： | 均質機口+投料口+測溫口+真空口+3個備用口 |
支架升降方式： | 電動升降（手動選配） |
支架升降形成： | 210mm |
接觸物料材質： | SUS316L不銹鋼+PTEF+硅硼玻璃夾層容器 |
真空口外徑： | 10mm |
玻璃容器夾層進口、出口： | 12mm |
允許環境溫度： | 5~40℃ |
允許環境濕度： | 80% |
外包裝尺寸： | 400×390×780mm |
重量： | 35KG |
包裝方式： | 木箱包裝 |
其他： | 可定制 |
因為真空系統涉及的技術參數比較復雜，選型前請專業的工程師，已確保你的工藝無誤；
表格中的數值為準確的數據，因技術改進、非標定制的，以實際確認數值為準；
可加裝附件
PH計
電導率儀
冷凝器
滴加管
無菌取樣閥
設備整機質保期12 個月，保修期內非違規操作或無法抗拒的工況因素外，供方負責提供易損件，損壞的備件由供方認定損壞原因；
保修期外供方對設備提供終身有償維修；
LD-1L實驗室真空乳化機
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