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Zeta-388 自動多模式光學輪廓儀

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產品型號Zeta-388

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更新時間:2022-10-30 14:45:45瀏覽次數:264次

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產品簡介

Zeta-388 自動多模式光學輪廓儀

詳細介紹

Zeta-388光學輪廓儀是自動化非接觸式3D表面形貌測量系統,具有集成的隔震系統和靈活的配置,并配備了 cassette-to-cassette的搬送系統,特別適合于自動化生產。該系統采用ZDot™技術和Multi-Mode (多模式)光學系統,可以對各種不同的樣品進行測量:透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的紋理,以及納米至毫米級別的臺階高度。

Zeta-388的配置靈活并易于使用,并集合了六種不同的光學量測技術。ZDot™測量模式可同時采集高分辨率3D數據和True Color(真彩)無限遠焦點圖像。其他3D測量技術包括白光干涉測量、Nomarski干涉對比顯微鏡和剪切干涉測量。ZDot或集成寬帶反射儀都可以對薄膜厚度進行測量。Zeta -388提供全面的臺階高度、粗糙度和薄膜厚度測量,以及缺陷檢測能力,OCR和SECS/GEM功能使Zeta-388能夠在自動化的生產設施中使用。

二、 功能

主要功能

臺階高度:納米到毫米級別的3D臺階高度

紋理:平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波紋度

外形:3D翹曲和形狀

應力:2D薄膜應力

薄膜厚度:30nm到100μm透明薄膜厚度

缺陷檢測:捕獲大于1μm的缺陷

缺陷復檢:采用KLARF文件作為導航以測量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置

技術特點

Zeta-388是采用ZDot和Multi-Mode(多模式)光學器件的簡單易用的全自動光學輪廓儀,具有廣泛的應用:

Z-Dot:同時采集高分辨率3D數據和True Color(真彩)無限遠焦點圖像

ZXI:白光干涉測量技術,適用于Z向分辨率高的廣域測量

ZIC:干涉對比度,適用于亞納米級別粗糙度的表面并提供其3D定量數據

ZSI:剪切干涉測量技術提供z向高分辨率圖像

ZFT:使用集成寬帶反射計測量膜厚度和反射率

AOI:自動光學檢測,并對樣品上的缺陷進行量化

生產能力:通過測序和圖案識別實現全自動測量,支持3D Scanning

大尺寸Wafer測量:測量尺寸可擴展至8寸

技術能力



三、應用

肖特玻璃-表面粗糙度

可用來測試玻璃等透明表面及不透明表面的形貌和表面粗糙度。


太陽能電池–不同反射率表面形貌測量

輕松獲得復雜差異化反射率樣品的表面形貌。


MEMS器件–臺階高度和粗糙度

小尺寸樣品nm級臺階精度,大尺寸樣品的亞微米臺階精度。

鏡頭-完整的表面輪廓

圖像拼接功能,可獲得大面積樣品的完整表面輪廓。

高分子薄膜-膜厚測量

可用于PI和PR薄膜的厚度測量,并可生成整片晶圓上的膜厚mapping。

藍寶石-圖案化晶片表面缺

可對特定缺陷進行三維輪廓掃描并進行相關測量,并對晶圓表面缺陷按尺寸、亮度、長寬比等進行分布統計并生成mapping。

四、其他

國內用戶

南京大學

南京郵電大學

國外用戶

麻省理工學院

加州大學達拉斯分校

耶魯大學

德州大學分校

西部數據

應用材料

博世

萊徹斯特大學

希捷

相關文獻

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3. Marta Palacios-Cuesta, et al. Fabrication of Functional Wrinkled Interfaces from Polymer Blends: Role of the Surface Functionality on the Bacterial Adhesion. Polymers. 2014, 6,11, 2845-2861.

4. Alberto Gallardo, et al. Chemical and Topographical Modification of Polycarbonate Surfaces through Diffusion/Photocuring Processes of Hydrogel Precursors Based on Vinylpyrrolidone. Langmuir .2017,33 ,7, 1614-1622.

5. Aurora Nogales, et al. Wrinkling and Folding on Patched Elastic Surfaces: Modulation of the Chemistry and Pattern Size of Microwrinkled Surfaces. ACS Appl. Mater. Interfaces. 2017,9,23,20188-20195.

6. Olga Kraynis, et al. Suitability of Raman Spectroscopy for Assessing Anisotropic Strain in Thin Films of Doped Ceria. Adv. Funct. Mater. 2019, 1804433,2-7.



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