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湖南宇晶機器股份有限公司
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總功率：120KW尺寸：W5600×D6300×H3170mm機器重量：15(t)設備專門用于IT 制造業結構件真空鍍膜加工，各系統單元和總體構成滿足光學和功能薄膜生產工藝要求，適用AR膜、NCVM顏色膜、金屬裝飾膜、金屬功能膜、AF功能膜等。The equipment is specially used for vacuum coating processing of struc......
1) 前級真空：由旋片泵、羅茨泵構成;
2) 高真空：擴散泵、超低溫冷凝水捕集泵(Polycold) ,真空室和擴散泵冷阱;
3) 抽氣系統：由各級泵、管道和閥門，在系統的控制下完成啟動、粗抽精抽、待命和維持流程。
| 項目 | 規格 |
| 成膜系統 | 1）電子槍，10KW,電子束偏轉角270度; 2）終端霍爾型離子源，3KW。 3）雙舟阻抗式蒸發源（共5KW），用于鍍制 AF膜層。 |
| 工作模式 | 離子清洗、 電子束蒸發，石英晶體薄膜厚度控制器監控膜厚并自動判停。 |
| 工藝流程 | 裝夾－抽真空－離子清洗－電子槍蒸踱－阻抗式蒸發AF- 進氣、 出爐。 |
| 功率 | 總功率 120KW，平均功率60KW |
| 設備外尺寸及總重 | 1）主框架及控制柜，不開門 W5600×D6300×H3170，開門 W5600×D8500×H3170； 2）粗抽泵組及粗抽管占地：W2000×D1500； 3）主框架外部必要的操作和維護維護空間：水平方向外延伸 800mm;垂直向上延伸 400mm。 4）總重：15噸 |
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