技術應用鏈接:
特點：
· 低壓等離子系統，用于不同材料表面的處理
· 配置自動/手動模式，實現控制高機能
· 6” Wafer去膠清洗
· 適合于研究院、高校、研發中心使用
· 操作簡單易使用
技術規格：
型號 | ZEPTO W6 | ZEPTO W6 PCCE | ||
控制系統 | 手動控制 | PCCE 控制系統 | ||
工藝氣路 | 雙路氣體 | |||
工藝氣體 | O2，Ar，N2，CO2，H2，Air等 | |||
單體導入 | H2O等單體（選配） | |||
流量計 | 針閥流量計 | MFC流量計 | ||
真空 腔體 | 材質 | 高硼硅玻璃腔體，蓋子門帶觀察窗(石英，鉸鏈門選配) | ||
內尺寸(Dia.×D)mm | 160mm×180mm | |||
容積 | 4L | |||
電極 | 360度外置環繞電極 | |||
發生器
| 40KHz 0~100 W 13.56MHz 0~50 W 13.56MHz 0~300 W | |||
真空壓力計 | 指針式壓力計（選購） | 皮拉尼數字式壓力計 | ||
計時器 | 旋鈕式（選購） | 數字式 | ||
托盤 | 高硼硅玻璃（石英選配） | |||
外形尺寸（WXDxH）mm | 269x324x176(40kHz) | 425x450x185(13.56MHz) | ||
電源 | AC220V 50Hz 10A | |||
真空泵 | 排氣速度4m3/H | |||
未找到相應參數組，請于后臺屬性模板中添加
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