超純水中氫氧自由基清洗晶圓表面的方法

隨著國民生活水平的不斷提高和人們對產品性能的追求，我國電子行業消費需求升級。在利好政策、技術更新迭代加快和市場需求的驅動下，我國電子產品行業發展迅速，蘇州超純水設備市場規模將進一步擴大。如何在眾多品牌中脫穎而出是眾多企業都在思考的問題，而產品的質量直接影響著企業的發展，這其中也包含生產用水。電子元件對生產用水要求十分嚴格，水質已成為影響電子元件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一。在電子元件生產中，超純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料，蘇州反滲透純水設備不同的電子元件生產用水對水質的要求也不同，因此大多企業都會選擇性價比較高的超純水設備。

　傳統的超純水制取工藝是采用陰陽樹脂交換設備，該工藝的缺點在于樹脂在使用一段時間以后要經常再生。隨著膜分離技術的不斷成熟，或是采用反滲透后面再經過EDI及拋光混床工藝來制取超純水，出水電導率最終可達1.2MΩ，滿足了電鍍涂裝行業的用水需求。超純水設備通常由石英砂過濾器、活性炭過濾器、阻垢劑、精密過濾器等構成預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等構成主要設備系統。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設有液位控制系統、高低壓水泵均設有高低壓壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，蘇州純化水設備真正做到了無人值守，使該設備與其它同類產品相比較。 

　　無需酸堿再生：在混床中樹脂需要用化學藥品酸堿再生，而EDI則消除了床酸堿再生時產生的廢酸費堿的處理和繁重的工作，保護了環境。連續、簡單的操作：在混床中由于每次再生和水質量的變化，使操作過程變得復雜，而EDI的產水過程是穩定的連續的，脫鹽水設備產水水質是恒定的，沒有復雜的操作程序，操作大大簡便化。電子產業飛速發展，其生產需要的配套產品需求也大大提高。電子產品對精度要求高，因而對電子元件的清洗要求也是很高的。這些應用既需要有高純度的水質，又需要具有經濟性。在半導體制程中，制作集成電路的尺寸越來越小，晶圓上的組件也隨之縮小，使得各種有機物、粒子的接觸污染及各機臺導致的金屬雜質等污染物大于或相當于組件尺寸的現象更嚴重，若在半導體制程中有污染物殘留在晶圓表面上，去離子水設備將造成組件短路或缺陷，導致集成電路無法使用。因此，半導體制程中不允許晶圓表面上殘留有污染物。污染物的去除是半導體制程中的重要技術，利用超純水中氫氧自由基清洗晶圓表面的方法，以增加粒子移除的效率，并減少制程成本。