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機械測試儀TriboLab CMP

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更新時間:2021-07-05 17:27:59瀏覽次數:183次

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****小規模研發系統中的 ROI,此臺式工具可再現全尺寸晶圓拋光工藝條件,而無需在生產設備上停機。靈活參數控制,允許量身定制的測試,以加快材料開發,并**優化流程。專家應用和支持,我們與大型安裝基地合作多年,為您的實驗室提供專業知識。

TriboLab CMP 利用其前身產品 (Bruker CP-4) 超過 20 年的 CMP 領域專業知識,為業界*的 TriboLab 平臺帶來了一套完整的功能。基于本套設備產生的高精度和高可重復性使得在整個 CMP 流程中能夠進行高效的鑒別、檢查和連續功能測試。TriboLab CMP 是市場上能夠提供廣泛的拋光壓力 (0.05-50 psi)、速度(1 至 500 rpm)、摩擦、聲發射和表面溫度測量的工藝開發工具,可準確、完整地描述 CMP 工藝和耗材。


用于 CMP 的小型研發規模專業系統

布魯克的TriboLab CMP工藝和材料表征系統是專為晶圓拋光工藝而設計,是具有可靠、靈活和高效的臺式設備。

  • 重現全尺寸晶圓拋光工藝條件,無需在生產設備上停機
  • 提供****的測量可重復性和細節檢測
  • 允許在小樣品上進行測試,比全晶圓測試節省大量成本


板載診斷系統可以更好地了解拋光過程

  • 比市場上任何其他系統提供更多的瞬態拋光過程的參數
  • 從接觸拋光盤開始直至整個測試過程都能收集數據
  • 通過更完整、更詳細的數據實現早期流程開發決策


具有靈活的樣品類型、尺寸和安裝配置

  • 拋光任何平面材料,幾乎能使用任何修正盤,任何拋光液,和任何拋光墊
  • 輕松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圓
  • 可同時安裝多個樣品,測試更靈活


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