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北京瑞斯派克儀器儀表科技發展中心
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UniFitHCPA441pH/氧化還原測量詳細介紹：應用UniFitHCPA441過程支架特別適用于需要電解液沖洗電極的場合，例如：蒸汽消毒底傳導率介質小量的電解液必須連續地從內置的pH或氧化還原電極的參比系統中流出
詳細介紹：應用
UniFit H CPA 441過程支架特別適用于需要電解液沖洗電極的場合，例如：
蒸汽消毒
底傳導率介質
小量的電解液必須連續地從內置的pH或氧化還原電極的參比系統中流出。這樣就能不使外來的物質滲入到隔膜或是參比系統中，從而能保持適當的傳導率使得測量保持穩定。因此UniFit H CPA 441有一個很大的壓力電解液池用于長時間的操作。不需要移動支架或電極來補充電解液，壓力來自于壓縮空氣或手動泵。
特點和優點
電解液池，帶有安裝在壓縮空氣連接器的止回閥和壓力表
補充電解液無需移動支架或電極
多種安裝類型：
- 螺紋連接
- 法蘭
- 符合DIN11851的牛奶接頭
- varivent適配器
可更新電極保護設備
安裝帶有KCL液體填充液的pH/氧化還原電極簡便，軸長225mm/8.86"
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