半導體廢水處理設備

伴隨著電子設備主要用途日益擴張，半導體材料對在我國發展趨勢具備關鍵的實際意義。半導體材料涉及到領域普遍，依據生產制造原材料及工藝流程的不一樣，造成廢水的廢水特性也不一樣，但都存有著排水量大，環境污染工作能力強的特性，嚴重威脅生態環境保護身心健康的與此同時也牽制其發展趨勢。

廢水來源于及水體特點：

依據半導體材料生產制造廢水污染物質的特性，可將半導體材料廢水分成三類，關鍵來自生產過程中造成的含氟量廢水、有機化學廢水及金屬離子廢水，詳解以下:

1、含氟量廢水，廢水關鍵來自于半導體材料生產制造工藝流程的離子注入段，因為應用了很多的氫氧酸、氟化銨等實驗試劑，造成的環境污染如氯化物、氨氨等濃度較高廢水一般呈強酸堿性;

2、有機化學廢水，其環境污染化學物質主要是一些基本污染物質，生產制造濃度跟生產工藝流程及實際操作管理能力關聯很大，COD一般在200~3000mg/L;金屬離子廢水，半導體材料廢水中的金屬離子類型諸多，關鍵如銅、鎳、錫、鉛、銀等，濃度一般在幾十mg/L。

處理難度分析：

高濃度的含氟量廢水解決難度系數大，一般的化學沉淀法無法*除去水里的氟離子，在排出規定高的情況下，解決其選用多種多樣組成處理工藝。

半導體材料有機化學廢水濃度不容易太高，但不一樣公司的水體轉變大，其滲水水體需依據檢驗檢測結果來明確。

對干不一樣類型的高濃度金屬離子廢水，應當分離搜集開展解決，若廢水中含金屬離子類型較多，生產流程會較長。

半導體廢水處理設備工藝

含氟量廢水一般選用化學沉淀法，加藥鈣質與水里的氟離子產生CaF2，再多方面混釋劑輔助就可以除去水里的氟離子，出水出水規定高時，可與生物化學法吸咐法等協同應用。

有機化學廢水一般選用經濟發展高效率的生物化學法，如獨立的好氧法或與氧氣不足法厭氧發酵法組成加工工藝對干廢水中COD高錳酸鹽指數總氧等堂規污邊物除去實際效果十分豐厚。

金屬離子廢水則需對于不一樣廢水不一樣類型開展挑選，常見的有化學沉淀法、吸咐法、離子交換等。

半導體業生產制造用水量其多，自來水規定不高，一般提議將廢水做回收利用解決，以節省產品成本。實際由此可見我局*及工業污水處理模塊。