一、等離子體清洗原理和作用

真空等離子清洗機(jī)原理：表面清洗和活化。等離子體中包括原子、分子、離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)原子、活化的分子及自由基，這些粒子的能量和活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，能與任何暴露的物體表面引起化學(xué)反應(yīng)，讓化學(xué)鍵被打開并結(jié)合上改性原子等高活性的物質(zhì)，使得材料表面親水性得到*提高，同時(shí)對(duì)材料表面的油污等有機(jī)大分子新的化學(xué)反應(yīng)，生成氣態(tài)小分子，例如二氧化碳，水氣等，從而達(dá)到對(duì)材料表面分子級(jí)別的清洗。

運(yùn)用等離子體的特殊化學(xué)物理特性，真空等離子清洗機(jī)的主要用途如下：

1.去除灰塵和油污、去靜電；

2.提高表面浸潤功能，形成活化表面；

3.提高表面附著能力、提高表面粘接的可靠性和持久性；

4.刻蝕物的處理作用。

深圳市東信高科自動(dòng)化設(shè)備有限公司始創(chuàng)于1998年,是中國早一批專業(yè)從事真空及大氣低溫等離孑體(電漿)技術(shù)、射頻及微波等離子體技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的國家髙新技術(shù)企業(yè),隸屬于東信髙科等離子科技(香港)控股有限公司,總部設(shè)于香港。目前公司設(shè)立有等離子事業(yè)部,超聲清洗事業(yè)部,自動(dòng)化設(shè)備事業(yè)部,塑膠焊接事業(yè)部。產(chǎn)品涉及等離子體表面處理設(shè)眢,超聲波淸洗設(shè)備、電鍍、制冷等環(huán)保自動(dòng)化設(shè)備等。