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4D智能集成等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-IP-XXHD-DXX

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  • 型號(hào) CRF-APO-IP-XXHD-DXX
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
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更新時(shí)間:2022-08-15 15:22:45瀏覽次數(shù):287

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產(chǎn)品概述單個(gè)處理系統(tǒng)可攜帶2-4個(gè)各種類型等離子噴槍,全網(wǎng)絡(luò)匹配、智能集成一體化;具有更節(jié)省空間、更多種類型的應(yīng)用;具有RS485/RS232、啟停I/O控制模式、方便快捷、降低成本;使用于不同場(chǎng)合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品概述
單個(gè)處理系統(tǒng)可攜帶2-4個(gè)各種類型等離子噴槍,全網(wǎng)絡(luò)匹配、智能集成一體化;
具有更節(jié)省空間、更多種類型的應(yīng)用;
具有RS485/RS232、啟停I/O控制模式、方便快捷、降低成本;
使用于不同場(chǎng)合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境。
 
產(chǎn)品特點(diǎn)
可In-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中,減少客戶投入成本;使用壽命長(zhǎng),保養(yǎng)維修成本低。
 
應(yīng)用范圍
主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理,手機(jī)屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。
 
除氣體分子、離子和電子外,智能集成等離子處理系統(tǒng)等離子體中也有受能量激起的電中性原子或原子團(tuán)(也稱之為自由基),以及由等離子體傳出的光。其光波長(zhǎng)短,能使紫外線在等離子體與化學(xué)物質(zhì)表層相互影響中起著關(guān)鍵功效。下列各自詳細(xì)介紹它們的功效。

原子團(tuán)等氧自由基在物件表層產(chǎn)生功效:
由于這些自由基全是中性電荷平衡的,存在時(shí)間長(zhǎng),而且在等離子體中比離子多,因此自由基在等離子體中起著關(guān)鍵作用。智能集成等離子處理系統(tǒng)在化學(xué)反應(yīng)過程中,自由基的作用具體表現(xiàn)用能量傳送的“活化”功效,在激發(fā)情況下,自由基的能量較高,因而非常容易與物件表層的分子結(jié)合,造成新的氧自由基,新產(chǎn)生的自由基也處在不穩(wěn)定的高能量情況下,有可能產(chǎn)生分解反應(yīng),在變?yōu)樾》肿油瑫r(shí)另外造成新的自由基,這一過程還很有可能再次發(fā)生,將其溶解為水、二氧化碳等簡(jiǎn)易分子,在其他的狀況下,自由基與物件表層分子結(jié)合時(shí),還會(huì)繼續(xù)造成很多的結(jié)合能,這一能量也是引起新的表面反應(yīng)的驅(qū)動(dòng)力,從而引起物件表層的化學(xué)物質(zhì)產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)而被消除。

電子與物體表層:
物體表層的撞擊,一方面促進(jìn)吸咐在表層的氣體分子分解或吸咐,另一方面很多的電子撞擊則有益于引起化學(xué)反應(yīng)。由于電子質(zhì)量十分小,因此比離子挪動(dòng)得迅速。等離子體處理時(shí),電子會(huì)比離子較早地抵達(dá)物體的表層,進(jìn)而使物體表層含有負(fù)電荷,進(jìn)而有益于引起進(jìn)一步的反應(yīng)。
 
離子與物體表面的作用:
一般所說的是帶正電荷的陽離子的作用,它們會(huì)加快奔向帶負(fù)電荷的表層,在這個(gè)時(shí)候,物體表層會(huì)得到非常大的動(dòng)能,足夠撞擊表層粘附的顆粒物性物質(zhì),大家稱作濺射現(xiàn)象。另外,因?yàn)殡x子的沖擊能夠進(jìn)一步提高物體表層產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)的概率。
 
紫外線對(duì)物體表面的反應(yīng):
紫外線具備較強(qiáng)的光能,能使粘附在物體表面的物質(zhì)的分子鍵破裂而分解,而且紫外線有較強(qiáng)的透過能力,能越過物體的表層,并能越過數(shù)微米深處產(chǎn)生作用。
 
總而言之,智能集成等離子處理系統(tǒng)等離子清洗機(jī)是運(yùn)用等離子體中各種各樣較高能物質(zhì)的活性功效,將吸咐在物件表層的污漬*脫離和去除。廣泛運(yùn)用于包裝、橡塑制品、通信、汽車、家用電器、光學(xué)、紡織品、半導(dǎo)體材料及精密機(jī)械制造等領(lǐng)域。
未找到相應(yīng)參數(shù)組,請(qǐng)于后臺(tái)屬性模板中添加

 

名稱(Name)

4D智能集成等離子處理系統(tǒng)

型號(hào)(Model)

CRF-APO-IP-XXHD-DXX

電源(Power supply)

220V/AC,50/60Hz

功率(Power)

800W*4set/25KHz

功率因素(Power factor)

0.98

等離子噴槍數(shù)量(Number of plasma   guns)

4(Max)

處理高度(Processing   height)

5-15mm

內(nèi)部控制模式(Internal control   mode)

數(shù)字控制(Digital control)

外部控制模式(External control   mode)

RS485/RS232、模擬通訊口、啟停IO(RS485/RS232、Analog communication port、ON/OFF I/O)

工作氣體(Gas)

Compressed Air(0.4mpa)/N2(0.2mpa)

 

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