CEW-4000型交直流磁粉探傷機

 一、對探傷機設計要求如下:
1.1采用濕法連續法復合磁化熒光磁粉探傷工藝，對工件一次性方位整體探傷；
1.2用15/50D型試片粘貼在零件表面，探傷后以所有刻痕清晰顯示驗證探傷機的綜合靈敏度為合格；
1.3采用進口可編程控制器對設備的運行進行手動控制或自動控制；
1.4退磁后零件上的剩磁應不大于0.3mT；
1.5考慮到零件的特定形狀，結合上述要求進行具體分析，現做技術方案供參考。
二、磁化方法的設計:
2.1、周向磁化
周向磁化就是在探傷零件表面建立周向磁場，檢測零件縱向不連續性（缺陷）的磁化。
該方案周向磁化采用穿芯法在零件的表面建立周向磁場，檢測零件縱向不連續性的磁化方式。所謂穿芯法就是讓芯棒作為導電體連接周向電極構成磁化電流通路,在零件表面建立周向磁場
檢測零件表面的縱向缺陷的磁化方法。
2.2、縱向磁化
縱向磁化就是在零件表面建立縱向磁場，檢測零件周向不連續性（缺陷）的磁化。
該方案縱向磁化采用線圈感應法在零件的表面建立縱向磁場，檢測零件周向不連續性的磁化方式。
所謂線圈感應法，就是將被檢測工件置于線圈有效磁場內部獲得平行于軸向的磁場方向，檢測零件表面周向缺陷的磁化方法。
三、CEW-4000型交直流磁粉探傷機設備主要技術參數：
 3.1、磁化方式：周向、縱向、復合三種磁化方式；
 3.2、周向磁化電流：AC 0-2000A有效值，連續可調；
 3.3、縱向磁化磁勢：AC 0-12000AT有效值，連續可調；
 3.4、周向退磁電流：AC 2000-0A有效值，連續可調；
 3.5、縱向退磁磁勢：AC 12000-0AT有效值，連續可調；
 3.6、電極zui大行程：400mm（可調）；
 3.7、暫載率：≥25%；
 3.8、夾持方式：氣動夾緊；
 3.9、運行方式：手動/自動；
 3.10、探傷靈敏度：15/50A1型試片清晰顯示；
 3.11、探傷節拍：約1.2秒/件(可多件同時磁化，上下料及觀察時間除外，探傷時間和工藝過程可根據需方實際需要，程序可調整)；
 3.12、電源：三相四線380V ±5% 50Hz 80A；
 3.13、暗房尺寸:2100mm (L)×2100mm(W)×2200mm(H)
  探傷機尺寸：1500mm(L)×750mm(W)×1500mm(H)（含噴淋架高度），
 3.14、使用環境：溫度-5℃+40℃，相對濕度≤80%，無腐蝕氣體、粉塵及中高頻干擾；
 3.15、重量：約1050Kg。