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日立高新場發射掃描電子顯微鏡

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更新時間:2023-03-19 19:12:33瀏覽次數:216次

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日立高新場發射掃描電子顯微鏡  ?利用電子槍轟擊后的高亮度穩定期,高分辨觀察和分析兼顧  ?大幅提高分辨率(1.1nm/1kV、0.8nm/15kV)  ?減輕污染的高真空樣品倉  ?通過頂部過濾器(選配項)實現多種材料對比度可視化日立SU8220 在油墨觀測分析中的應用打印機墨粉的微觀結構及形狀等直接影響著打印質量,因此它受到廣泛的研究關注。利用日立場發射掃描電鏡SU8220觀測的

日立高新場發射掃描電子顯微鏡SU8200系列
日立高新場發射掃描電子顯微鏡SU8200系列(HITACHI UHR FE-SEM SU8200 Series,SU8220,SU8230,SU8240)采用日立高新技術公司全新開發的冷場電子槍,實現超高分辨率下觀察的同時,穩定的束流亦可滿足長時間下的分析需求。在日立高新的新型冷場發射掃描電鏡(FE-SEM)SU8200系列中,有SU8220、SU8230、SU8240三款機型,于5月20日開始發售。

日立新研發的冷場電子槍

  •利用電子槍轟擊后的高亮度穩定期,高分辨觀察和分析兼顧

  •大幅提高分辨率(1.1nm/1kV、0.8nm/15kV)

  •減輕污染的高真空樣品倉

  •通過頂部過濾器(選配項)實現多種材料對比度可視化
日立SU8220 在油墨觀測分析中的應用
打印機墨粉的微觀結構及形狀等直接影響著打印質量,因此它受到廣泛的研究關注。利用日立場發射掃描電鏡SU8220觀測的墨粉顆粒,不僅可直接觀測到表面的細節形貌及成分襯度。搭載能譜分析還能分析油墨表面的成分。
日立場發射掃描電子顯微鏡用SU8220系列觀察太陽能薄膜電池
銅銦鎵硒薄膜太陽能電池板以其高轉換率和低成本備受期待。 由于各層的顆粒尺寸和層結構質量會影響發電表現,因此用SEM觀察斷面結構非常重要。

 【主要特點】  

 日立高新新研發的冷場電子槍

  •利用電子槍轟擊后的高亮度穩定期,高分辨觀察和分析兼顧

  •大幅提高分辨率(1.1nm/1kV、0.8nm/15kV)

  •減輕污染的高真空樣品倉

  •通過頂部過濾器(選配項)實現多種材料對比度可視化

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