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TFMS-LD反射光譜薄膜測(cè)厚儀

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更新時(shí)間：2020-01-26 18:26:52瀏覽次數(shù)：441次

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沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

加工定制	否

TFMS-LD反射光譜薄膜測(cè)厚儀理論基礎(chǔ)為鏡面光纖反射探頭，該儀器尺寸小巧可節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間，操作方便，讀數(shù)直觀，方便于在實(shí)驗(yàn)室中擺放和使用。

詳細(xì)介紹

TFMS-LD反射光譜薄膜測(cè)厚儀是一款利用反射光譜測(cè)試薄膜厚度的儀器，可快速精確地測(cè)量透明或半透明薄膜的厚度而不損傷樣品表面的薄膜，是一款無(wú)損測(cè)厚儀，其測(cè)量膜厚范圍為15nm-50um，測(cè)量膜厚范圍廣，尤其適用于超薄薄膜厚度的測(cè)量。儀器所發(fā)出測(cè)試光的波長(zhǎng)范圍為400nm-1100nm，波長(zhǎng)范圍廣，因此，測(cè)試薄膜厚度的范圍廣。反射光譜薄膜測(cè)厚儀測(cè)試系統(tǒng)的理論基礎(chǔ)為鏡面光纖反射探頭，該儀器尺寸小巧可節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間，操作方便，讀數(shù)直觀，方便于在實(shí)驗(yàn)室中擺放和使用。

產(chǎn)品名稱(chēng)	TFMS-LD反射光譜薄膜測(cè)厚儀
產(chǎn)品型號(hào)	TFMS-LD
測(cè)量膜厚范圍	15nm-50um
光譜波長(zhǎng)	400 nm - 1100 nm

特點(diǎn)

測(cè)量和數(shù)據(jù)分析同時(shí)進(jìn)行，可測(cè)量單層膜，多層膜，無(wú)基底和非均勻膜

包含了500多種材料的光學(xué)常數(shù)，新材料參數(shù)也可很容易地添加，支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等

體積較小，方便擺放和操作

可測(cè)量薄膜厚度，材料光學(xué)常數(shù)和表面粗糙度

使用電腦操作，界面中點(diǎn)擊，即可進(jìn)行測(cè)量和分析

沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司是由畢業(yè)于美國(guó)麻省理工學(xué)院的江曉平博士于2000年5月創(chuàng)建。與合肥科晶材料技術(shù)有限公司、深圳市科晶智達(dá)科技有限公司同屬于科晶聯(lián)盟。自*SYJ-150低速金剛石切割機(jī)誕生以來(lái)，沈陽(yáng)科晶便開(kāi)始了以趕超國(guó)外同行、材料分析設(shè)備潮流為目標(biāo)的發(fā)展歷程。時(shí)至今日，已經(jīng)擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結(jié)、分析等領(lǐng)域以及相關(guān)耗材的上百種產(chǎn)品，可以滿(mǎn)足晶體、陶瓷、玻璃、巖相、礦樣、金屬材料、耐火材料、復(fù)合材料、生物材料等制備分析的全套需要。

關(guān)鍵詞：測(cè)厚儀切割機(jī)

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