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半導體污水處理

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更新時間：2024-10-07 08:20:40瀏覽次數：154次

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產品簡介

隨著電子產品應用領域日益擴大，半導體對我國發展具有重要的意義。半導體涉及行業廣泛，根據生產原料及工序的不同，產生廢水的廢水性質也不同，但都存在著排水量大，污染能力強的特點，嚴重危害生態環境健康的同時也制約其發展。

詳細介紹

概述

污水來源及水質特點

根據半導體生產廢水污染物的特點，可將半導體廢水分為三類，主要來源于生產過程中產生的含氟廢水、有機廢水及金屬離子廢水，詳細介紹如下：

1、含氟廢水，廢水主要來自于半導體生產工序的刻蝕段，由于使用了大量的氫氟酸、氟化銨等試劑，產生的污染如氟化物、氨氮等濃度較高，廢水一般呈強酸性；

2、有機廢水，其污染物質主要是一些常規污染物，生產濃度跟生產工藝及操作管理水平關系較大，COD一般在200～3000mg/L；

金屬離子廢水，半導體廢水中的金屬離子種類眾多，主要如銅、鎳、錫、鉛、銀等，濃度一般在幾十mg/L。

處理難點分析

高濃度的含氟廢水處理難度大，一般的化學沉淀法難以去除水中的氟離子，在排放要求高的時候，應對其采用多種組合工藝處理。

半導體有機廢水濃度不會太高，但不同企業的水質變化大，其進水水質需根據化驗監測結果來確定。

對于不同種類的高濃度金屬離子廢水，應該分開收集進行處理，若廢水中含金屬離子種類較多，工藝流程會較長。

污水處理工藝

含氟廢水一般采用化學沉淀法，投加鈣鹽與水中的氟離子形成CaF2，再加以混凝劑輔助即可去除水中的氟離子。出水要求高時，可與生化法、吸附法等聯合運用。

有機廢水一般采用經濟高效的生化法，如單獨的好氧法或與缺氧法、厭氧法組合工藝，對于廢水中COD、氨氮、總氮等常規污染物去除效果非常可觀。

金屬離子廢水則需針對不同廢水不同種類進行選擇，常用的有化學沉淀法、吸附法、離子交換法等。

半導體行業生產需水甚多，用水要求不高，一般建議將廢水做回用處理，以節約生產成本。具體可見我司及中水回用單元。

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