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產品簡介

A system for UHV analysis of neutrals, radicals and ions. Measures the ions, neutrals, and partial pressures in UHV/XHV.

EPIC離子/分子分析質譜儀(EPIC Systems with Pulse Ion Counting and Pole Bias Control)是帶脈沖離子計數和四級桿偏壓控制的三級過濾四極質譜儀，用于高精密科學分析，過程研究以及中性粒子、自由基、正負離子的UHV分析。

EPIC離子/分子分析質譜儀可增加能量過濾器、Bessel Box能量分析器或45°扇形能量分析器，升級至Hiden的Plasma/ SIMS系列EQP，EQS，PSM 和Maxim。

·6、9、12 mm 直徑的四極桿可選

·±100 eV離子能量分布，1000 eV可選

·離子源控制，以實現軟離子化及表觀電勢質譜

·脈沖離子計數器，連續7個數量級動態范圍，Faraday 選項為5x10¹⁰

·一級過濾處增加射頻，增強抗污染物能力

·信號選通分辨率0.1μs，用于能量、質量分布隨時間變化或TOF研究中

·程序升溫脫附時，溫度數值同步顯示

·標配UHV罩，液氮冷卻罩可選

·MASsoft專業軟件控制

·可升級至Plasma/ SIMS 配置

·質量數范圍： 1～300 amu（標準配置）

500、1000、2500 amu（選配）

·測量速度： 500 points/s

·分辨率： 0.1% Valley、1% Valley

·動態范圍： 10⁷

·檢測分壓： 5 X 10^-15 mbar ，1X10^-16 mbar

·離子能量： ±100eV（標準配置）

±1000eV（選配）

·信號選通分辨率：0.1µs

·穩定性： 24h以上，峰高變化小于±0.5%

3F Series Mass Spectrometers (0.68MB)

Mass Spectrometers for Residual Gas Analysis - RGA (1.35 MB)