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反滲透裝置的清洗 反滲透設備

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更新時間:2023-03-22 09:42:22瀏覽次數:810

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產品簡介

反滲透裝置的清洗在正常運行條件下,反滲透膜可能被無機物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染, 這些物質沉積在膜表面上,將會引起反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降,因此,為了恢復良好的透水和除鹽性能,需要對膜進行化學清洗。

詳細介紹

反滲透裝置的清洗

1.清洗的必要性
在正常運行條件下,反滲透膜可能被無機物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染,  這些物質沉積在膜表面上,將會引起反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降,因此,為了恢復良好的透水和除鹽性能,需要對膜進行化學清洗。
2.清洗條件
凡具備下列條件之一,需要對膜元件進行清洗:(1)正常的出水流量下降10‰(2)產品水含鹽量明顯增加。(3)已證實有污染或結垢發生。
3.清洗要求
對多段RO裝置,原則上清洗應分段進行,清洗水流方向與運行方向相同。當污染比較輕微時,可以多段一起進行清洗。膜元件污染嚴重時,清洗液在初幾分鐘可排地溝,然后再循環。一般情況下,清洗液可不排地溝,直接循環。在清洗膜元件時,有關的清洗系統應用水沖洗干凈,以免污染膜元件,應認真檢查有關閥門是否嚴密。清洗過程中應監測清洗溫度、PH值、運行壓力以及清洗液顏色的變化。系統溫度一般不應超過40。c,運行壓力以能完成清洗過程即可,壓力容器兩端壓降不應超過0.35M Pa。一般情況下,清洗每一段循環時間可為1.5h,污染嚴重時應加長時間,清洗完畢后,應用反滲出水沖洗RO裝置,時間不少于30min。當膜污染嚴重時,清洗*段的溶液不要用來清洗第二段,應重新配制清洗液。為提高清洗效果,可以讓清洗液浸泡膜元件,但時間不應超過24h。
4.反滲透裝置的清洗用奠元件的殺菌處理
(1)醋酸纖維膜用殺菌劑
1)游離氯
游離氯的使用濃度為0.1—1.0ppm,可以連續加入,也可以間斷加入,如果必要,對醋酸膜元件可以采用沖擊氯化的方法。此時,可將膜元件與含有50ppm游離氯的水每兩周接觸1小時。如果給水中含有腐蝕產物,則游離氯會引起膜的降解。所以在腐蝕存在的場合,我們建議使用濃度Z高為10ppm的氯胺來代替游離氯。
2)甲醛
可使用濃度為0.1到1。0%的*作為系統殺菌及*保護之用。
3)異噻唑啉
異噻唑啉由水處理藥品制造商來供應,其商標名為I(athon,市售溶液含1.5%的活性成份,I貯時的建議濃度為15到25ppm。
(2)聚酰胺復合膜(Es PA、ES NA、C PA和SwC)及聚烯烴膜(PVDl)用殺菌劑。
1)甲醛
濃度為0。1到1.0%的*可用于系統殺菌及*停用保護,至少應在膜元件使用24小時后才可與甲醛接觸。
2)異噻唑啉
異噻唑啉由水處理藥品制造商來供應,其商標名為l(athon,市售溶液含1.5%的活性成份,I(athon用于殺菌和存貯時的建議濃度為15到25ppm。

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