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赫爾納貿易（大連）有限公司
主營產品： PPSU接頭,PSI5接口,進口插桶泵,車門關閉速度測試儀,jutec隔熱服,hptech燃油泵,3M摩擦墊片 |
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18804209403
公司信息
- 聯系人：
- 王經理
- 電話：
- 86-0411-87187730
- 手機：
- 18804209403
- 傳真：
- 86-0411-87317760
- 地址：
- 海航路9號
- 郵編：
- 個性化：
- www.heilna-gmbh.com
- 網址：
- www.heilna.com/
| 參考價 | ￥ 100000 |
| 訂貨量 | 1件 |
- 型號 DCM-10
- 品牌 其他品牌
- 廠商性質 經銷商
- 所在地 大連市
更新時間：2024-12-30 08:43:08瀏覽次數：579
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芬蘭KxS 化學監測儀赫爾納供應
芬蘭KxS 化學監測儀赫爾納供應，由赫爾納德國總部直接采購，近30年進口工業品經驗，原裝產品，支持選型，為您提供一對一好的解決方案：貨期穩定，快速報價，價格優，設有8大辦事處提供相關售后服務。
公司簡介：
KxS Technologies 隨時幫助您滿足過程監控需求，在每個階段提供支持。從專家應用咨詢和選擇正確的解決方案到順利啟動和生命周期支持，我們都能滿足您的需求。
芬蘭KxS 化學監測儀產品型號：
DCM-10
芬蘭KxS 化學監測儀產品介紹：
KxS 原位折射率：半導體工廠化學監測的行業標準。在平衡整個晶圓廠分銷鏈中的半導體化學濃度測量的成本、速度和精度時，原位折射率已成為行業標準。借助KxS Technologies 的好解決方案和專業知識，體驗化學監測過程中的精度和效率。
芬蘭KxS 化學監測儀監測范圍：
KxS 半導體 DCM-10 晶圓廠化學監測儀經過專業設計，可：
? 定義傳入的清潔化學品濃度和原始 CMP 漿料密度。
? 在用于銅、鎢和層間電介質平坦化應用的膠體二氧化硅型 CMP 漿料中實現并確保H2O2 濃度和去離子水稀釋。
? 將濃度測量值與緩沖氧化物蝕刻 (BOE) 等工藝中的晶圓蝕刻速率 (ER) 相關聯。
? 優化濕法帶材旋壓工具中蝕刻后殘留物去除劑（例如 EKC265™）的鍍液壽命。
芬蘭KxS 化學監測儀監測種類：
我們的技術能夠監測各種關鍵半導體化學品，包括但不限于：過氧化氫 (H2O2)、氫氧化銨（NH3水）、稀氫氟酸（HF）、磷酸 (H3PO4)、鹽酸（HCl）、氫氧化鈉 (NaOH)、硫酸（H2SO4）、N-甲基吡咯烷酮（NMP）、四甲基氫氧化銨 (TMAH)、異丙醇 (IPA)、氫氧化鉀 (KOH)、硝酸（HNO3）、聚乙二醇 (PEG)、檸檬酸（C6H8O7）、乙酸 (CH3COOH)
芬蘭KxS 化學監測儀應用領域：
我們的半導體工廠化學監測儀非常適合各種應用，包括：
? SC-1、SC-2 的化學混合校驗
? 使用 NH3 水混合物進行硬掩模蝕刻
? 使用 50% KOH 進行硅濕法蝕刻
? 使用 H2SO4:HNO3:H3PO4 混合物進行鈦蝕刻
? 使用 HF:HNO3 混合物進行背面多晶硅蝕刻
? 使用各種混合物進行 CMP 后清潔
