在電子工業(yè)純水處理設(shè)備的運(yùn)行中，我們不僅要知道電子工業(yè)純水處理設(shè)備怎么使用，還要知道怎樣對(duì)設(shè)備進(jìn)行運(yùn)行維護(hù)，這樣才能使電子工業(yè)純水處理設(shè)備使用的時(shí)間更長(zhǎng)，那么電子工業(yè)純水處理設(shè)備運(yùn)行中的維護(hù)方法是什么呢?

1、防止細(xì)菌滋生：針對(duì)細(xì)菌滋生的問(wèn)題，可以在超濾系統(tǒng)前端投加次氯酸鈉藥劑，在超濾系統(tǒng)中殺死細(xì)菌，并在出水中留用余氯，抑制細(xì)菌滋生，也可以在原水中投加非氧化性殺菌劑以殺死細(xì)菌。但水中留用的余氯會(huì)損害反滲透膜，所以還需要在反滲透膜前端投加還原劑以消除余氯。

2、鈣、鎂等離子結(jié)垢：針對(duì)鈣、鎂等離子結(jié)垢的問(wèn)題，可以在反滲透前端投加阻垢劑，阻垢劑和還原劑均需從專業(yè)藥劑廠家購(gòu)買，阻垢劑、還原劑的濃度根據(jù)進(jìn)水水質(zhì)進(jìn)行調(diào)節(jié)。

3、化學(xué)清洗：在反滲透膜運(yùn)行一段時(shí)間后，膜內(nèi)會(huì)滋生細(xì)菌以及結(jié)垢，影響反滲透膜的產(chǎn)水量和脫鹽率，所以定期需要對(duì)反滲透膜進(jìn)行化學(xué)清洗。化學(xué)清洗包括堿洗和酸洗，堿洗的作用是去除反滲透膜中的細(xì)菌等有機(jī)污染，酸洗的作用是去除反滲透膜中的無(wú)機(jī)污染和金屬氧化物。每次堿洗和酸洗的配藥濃度約為2.5%，堿洗劑和酸洗劑均需從專業(yè)藥劑廠家購(gòu)買。對(duì)于重度污染的膜需要堿液和酸液的反復(fù)清洗，將反滲透中污染物質(zhì)去除。藥劑在清洗過(guò)程中采用沖擊加浸泡的循環(huán)方式，通過(guò)加藥泵向反滲透中加藥1 h后停止運(yùn)行加藥泵，關(guān)閉化學(xué)清洗的加藥和出藥閥門，將藥劑留在反滲透膜內(nèi)浸泡，浸泡2 h后，打開(kāi)閥門，啟動(dòng)泵，循環(huán)沖擊和浸泡。在堿洗過(guò)程中，因?yàn)闅⑺牢⑸飼?huì)產(chǎn)生大量泡沫，應(yīng)及時(shí)清理，避免造成泡沫飛濺。

4、低壓沖洗：在線低壓沖洗是將濃水排水閥門、產(chǎn)水排水閥門及低壓沖洗進(jìn)水閥門同時(shí)打開(kāi)，通過(guò)啟動(dòng)低壓沖洗泵，使水流在反滲透膜管內(nèi)產(chǎn)生紊流，沖洗膜表面的鹽分和污染物，再通過(guò)排放水閥門排走。低壓沖洗使用反滲透的產(chǎn)水作為沖洗水，避免產(chǎn)生二次污染。低壓沖洗在系統(tǒng)中被設(shè)置為常規(guī)操作，在開(kāi)機(jī)和停機(jī)的過(guò)程中進(jìn)行1次，可設(shè)置成每d的例行操作，定期進(jìn)行沖洗。低壓沖洗的壓力、流量和時(shí)間都洗效果有影響。流量一般大于運(yùn)行流量，應(yīng)避免流量過(guò)大，使鹽分擁堵在膜內(nèi)。運(yùn)行壓力一般以產(chǎn)水為準(zhǔn)，不需要施加過(guò)大壓力。操作時(shí)間為5～10 min。

   上述內(nèi)容就是對(duì)電子工業(yè)純水處理設(shè)備運(yùn)行中的維護(hù)方法是什么的介紹了，在使用過(guò)程中一定不要忽視了對(duì)設(shè)備的維護(hù)。