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作為一種綠色的消毒技術，紫外線（UV）消毒已經被認可并開始應用于污水處理。由于受到形態結構等因素的影響，實際UV消毒器的水力條件很難達到理想的推流狀態，故反應器內個部分水流的停留時間并不相同；此外，因處理水中部分污染物對UV的吸收，消毒器內的UV劑量分布也不均勻，從而影響了UV的消毒效果。因此，有必要對反應器的水力特性進行研究。
當紫外線消毒器的長徑比較大時，徑向尺寸的影響基本可以忽略，進口垂直或平行于反應器主體已及進出口位于反應器的同側或異側對水力特性沒有顯著的影響。
隨著雷諾數Re的增大，紫外線消毒器的其它水力特性參數總體上呈增加的趨勢，水流的拖尾現象也隨之被弱化，水流狀態逐漸接近推流，因而在相同的UV劑量下，增大雷諾數可以提高反應器的消毒效果。
利用CFD技術模擬水流在UV消毒器內的流場，計算累計停留時間分布F（t）并與示蹤試驗相比較，結果表明CFD模擬能夠較好地反映UV消毒器的實際水力條件，二者F（t）的差別主要是由于示蹤試驗中的實際條件偏離理想條件所致。隨著雷諾數的增加，反應器的各部分水流F（t）之間的差別在逐漸縮小。
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