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無錫雷士超聲波設備有限公司
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半導體晶體玻璃清洗LSA雷士清洗機，應用范圍液晶顯示器件，半導體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、帶氧化膜的金屬材料等主要材料玻璃、光學玻璃
半導體晶體玻璃清洗LSA雷士清洗機
應用范圍
液晶顯示器件，半導體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、帶氧化膜的金屬材料等主要材料玻璃、光學玻璃。
去除污垢：有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑、聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余光刻膠等。
在真空狀態下進行清洗、干燥和蒸餾再生過程中，由于含氧量很低，雖然溫度達到或超過碳氫溶劑的閃點也不會燃燒，保證了使用的安全。
超聲波清洗機的特點：
1在液體中清洗的方式，清洗后臟污留在液體中
2可*清除物體表面的碳和有機污染物。
3清洗后的液體排放掉，重新換上新液體
4保證產品工件的高可靠性和高成品率
5產品表面清洗處理的均勻度非常一致
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