Plan C平場物鏡下出色的平場圖像
　　采用UIS系統的PLC系列平場物鏡顯著地提高了圖像的平場性，即使視場邊緣仍然能保持*的銳利和清晰度。PLC物鏡在zui常用的10×和40×倍率下平場率達到95%，圖像效果尤為出色，代表了同類的zui高水平。

明亮，光照均勻的成像品質
　　照明系統采用高強度的6V，30W汞燈作光源，是明亮圖像的保證。標準的視場光闌和內置的聚光鏡孔徑光闌相結合，在各種放大倍率下都能提供充足、均勻的照明效果。

堅固耐用的結構保證了高性能和長使用壽命
　　鏡體結合緊湊，剛性*，操作簡單，符合人機工程學要求，安全穩固的一體化機身保證了出色的性能與使用安全，不容易丟失的配件。

數碼成像裝置配件
　　可以選擇奧林巴斯數碼相機接口，進行簡單、經濟的數碼成像。

防霉處理
　　觀察筒、目鏡和物鏡都進行了防酶處理，即使在潮濕地區也能保證光學部件的優良品質。

實現包括熒光等多種觀察方法，擁有*的性能價格比

滑動聚光鏡/ CX-SLC
明場聚光鏡/ CH3-CD

　　這些阿貝聚光鏡可以進行4×到100×的明場觀察。輔助透鏡（CX-AL）能夠精確調節光軸中心，并且配合孔徑光闌獲得*的苛勒照明效果。如果添加相應的附件，這些阿貝聚光鏡就能進行相差和暗場的顯微觀察。



相差觀察附件/ CX-PH1,2,3
用于10×，40×，100×的相差觀察。



暗場*光闌/ CH2-DS
用于4×到40×的暗場觀察。



低倍放大適配器/ CX-LA
用于2×物鏡進行宏觀觀察。

落射熒光裝置/ CX-RFL-2
落射熒光裝置可以進行藍、綠兩種激發的熒光觀察。用戶可以在熒光觀察方式和明場觀察方式之間自由切換。UIS2光學系統提供更明亮，更清晰的熒光圖像，排除勒因為添加勒中間附件而產生的不良影響。標準的Plan C物鏡能直接用于熒光觀察。



• 防酶處理
觀察筒、目鏡和物鏡等光學部件都進行了防酶處理，即使在潮濕地區也能保證光學部件的優良品質。