把等離子體放電技術(shù)在廢氣處理方面的應(yīng)用

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把等離子體放電技術(shù)在很久以前上和我們國(guó)內(nèi)就有人進(jìn)行了研究，但是應(yīng)用在有機(jī)廢氣處理上面還是近年的事情，這種技術(shù)是由油煙凈化器演變而來的，由于等離子放電技術(shù)在油煙凈化方面的表現(xiàn)所以越來越多的引起了人們對(duì)它的關(guān)注，并逐步的把他對(duì)油煙的功效向有機(jī)廢氣處理方面發(fā)揮，使廢氣處理設(shè)備的家族中增添了新的成員。

一、低溫等離子體電.放電與介質(zhì)阻擋放電技術(shù)

1、低溫等離子體電放電技術(shù)特點(diǎn)

在大氣污染物的治理上，電暈放電技術(shù)多用于煙道氣脫硫和脫硝，去除空氣中揮發(fā)性有機(jī)氣體、H多、鹵代烷烴等;在水污染治理上，多用于處理含酚、含醛、含精等難降解的有機(jī)廢水2.2介質(zhì)阻擋放電技術(shù)特點(diǎn)及結(jié)構(gòu)類型介質(zhì)阻擋放電（又稱無聲放電）具有反應(yīng)區(qū)域空間大，可在大氣壓強(qiáng)下工作以及低氣壓下輝光放電均勻、漫散、穩(wěn)定等特點(diǎn)，而且可以防止在放電空間形成局部火花或弧光放電，降耗*。目前，介質(zhì)阻擋放電技術(shù)在臭氧合成、CO:激光器、紫外光源、材料表面改性和廢氣處理等方面獲得了廣泛的應(yīng)用問。

介質(zhì)阻擋放電間隙結(jié)構(gòu)主要有3種類型（見圖）

圖中a為放電電極，b為絕緣介質(zhì)薄層，C為接地極。這些電極和間隙結(jié)構(gòu)既可以是平面型，也可以是同軸圓柱型。A型為單絕緣介質(zhì)插人放電空間，只與一個(gè)電極表面接觸，特點(diǎn)是結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，且可以通過金屬電極把放電產(chǎn)生的熱量散發(fā)掉。B型為雙絕緣介質(zhì)插人放電空間，分別與兩個(gè)電極表面接觸，特點(diǎn)是放電發(fā)生在兩層介質(zhì)之間，防止低溫等離子體直接與金屬電極接觸，可以產(chǎn)生高純度等離子體。C型為單絕緣介質(zhì)插人放電空間，不與任何電極表面接觸，特點(diǎn)是可以在絕緣介質(zhì)兩邊同時(shí)生成兩種成分不同的等離子體。

在介質(zhì)阻擋放電中，電介質(zhì)的材料直接影響放電過程的電子強(qiáng)度及對(duì)污染物的處理效果。電介質(zhì)的材料可以是石英，陶瓷、普通玻璃，其未來發(fā)展方向是材料表面光滑，介電常數(shù)及軟化溫度較高。實(shí)驗(yàn)表明:處理低濃度氣體時(shí)，石英的效果不如陶瓷，特別是電壓較高時(shí)更適合采用陶瓷作為電介質(zhì);當(dāng)苯的初始濃度增大時(shí)，石英的降解效果則優(yōu)于陶瓷，且以內(nèi)外管組成分別為“陶瓷+石英”對(duì)苯的降解效果;普通玻璃和聚四氟乙烯都不適合作電介質(zhì)材料。

2、等離子體放電技術(shù)

1925年Irvi嗯ungrnuir首先使用plasma這一名詞表示由電子和離子群組成的近似電中性的電離氣體—等離子體。當(dāng)體系中電子的溫度高達(dá)104K以上，而離子和中性粒子的溫度低至300-500K時(shí)稱為低溫等離子體（又稱為非平衡態(tài)等離子體尸。作為一項(xiàng)新興的前沿科學(xué)技術(shù)，低溫等離子體放電技術(shù)在環(huán)境污染物治理、滅菌消毒、高分子材料以及物理領(lǐng)域等方面的應(yīng)用取得了一定進(jìn)展，尤其在污水治理方面有著廣闊的工業(yè)化前景

1低溫等離子體的產(chǎn)生及其放電形式

低溫等離子體一般通過氣體放電產(chǎn)生，其產(chǎn)生有兩個(gè)要素:一是激發(fā)并維護(hù)等離子體放電;二是在等離子體內(nèi)引發(fā)化學(xué)反應(yīng)。根據(jù)氣體放電產(chǎn)生的機(jī)理、氣體的壓強(qiáng)范圍、電源性質(zhì)以及電極的幾何形狀，低溫等離子體的放電形式分為:輝光放電、射頻放電、微波放電、電暈放電和介質(zhì)阻擋放電。由于前三種放電形式存在裸露的電極污染等離子體的缺陷，因此實(shí)際應(yīng)用受到限制。電暈放電和介質(zhì)阻擋放電是合適的放電形式，具有操作方便，降低能源消耗的特點(diǎn)

　由于此一技術(shù)在這一領(lǐng)域應(yīng)用的時(shí)間不是很長(zhǎng)，注定有它不可避免的缺點(diǎn)，比如效率不如吸附脫附催化燃燒有機(jī)廢氣處理設(shè)備那樣高等等情況，但是隨著時(shí)間的推移大家一定能夠克服這些投點(diǎn)，把我們的事業(yè)更加向前推進(jìn)。

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